ウェーハ加工装置の世界市場2021-2031:機会分析・産業予測

◆英語タイトル:Wafer Processing Equipment Market By Process (Depositon, Etch, Mass Metrology, Strip and Clean), By  Application (Dicing, Grinding and Probing, Polishing, Edge Shaping, Cleaning), By End User (Computer, Communication, Consumer, Industrial, Others): Global Opportunity Analysis and Industry Forecast, 2021-2031

Allied Market Researchが発行した調査報告書(ALD23FB006)◆商品コード:ALD23FB006
◆発行会社(リサーチ会社):Allied Market Research
◆発行日:2022年10月
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◆ページ数:218
◆レポート形式:英語 / PDF
◆納品方法:Eメール(受注後24時間以内)
◆調査対象地域:グローバル
◆産業分野:建築&製造
◆販売価格オプション(消費税別)
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❖ レポートの概要 ❖

Allied Market Research社は、世界のウェーハ加工装置市場規模が2021年8521百万ドルから2031年14416.1百万ドルに達し、2022年から2031年まで年平均5.3%成長すると予測しています。本書は、ウェーハ加工装置の世界市場について調査・分析し、イントロダクション、エグゼクティブサマリー、市場概要、プロセス別(デポジット、エッチ、マスメトロ、ストリップ&クリーン)分析、用途別(グラインド&プロービングダイシング、ポリッシング、エッジシェイプ、クリーニング、ダイシング)分析、エンドユーザー別(コンピュータ、通信、家電、工業、その他)分析、地域別(北米、ヨーロッパ、アジア太平洋、中南米・中東・アフリカ)分析、企業状況などについて以下の内容を掲載しています。また、参入企業情報として、Tokyo Electron Limited、Lam Research Corporation、Applied Materials, Inc.、Spts technologies ltd.、Plasma- Therm、Nikon Corporation、KLA Corporation、DISCO、Motorola Solutions, Inc.、Hitachi kokusai linearなどが含まれています。
・イントロダクション
・エグゼクティブサマリー
・市場概要
・世界のウェーハ加工装置市場規模:プロセス別
- デポジットの市場規模
- エッチの市場規模
- マスメトロの市場規模
- ストリップ&クリーンの市場規模
・世界のウェーハ加工装置市場規模:用途別
- グラインド&プロービングダイシングにおける市場規模
- ポリッシングにおける市場規模
- エッジシェイプにおける市場規模
- クリーニングにおける市場規模
- ダイシングにおける市場規模
・世界のウェーハ加工装置市場規模:エンドユーザー別
- コンピュータにおける市場規模
- 通信における市場規模
- 家電における市場規模
- 工業における市場規模
- その他エンドユーザーにおける市場規模
・世界のウェーハ加工装置市場規模:地域別
- 北米のウェーハ加工装置市場規模
- ヨーロッパのウェーハ加工装置市場規模
- アジア太平洋のウェーハ加工装置市場規模
- 中南米・中東・アフリカのウェーハ加工装置市場規模
・企業状況
・企業情報

世界のウェーハ加工装置市場は、2021年に85億2,100万ドル、2031年には144億1,610万ドルに達すると予測され、2022年から2031年までのCAGRは5.3%となる見込みです。
ウェーハ加工には、形成、テクスチャリング、洗浄、ダイシング、エッチングなどのアクティビティが含まれます。ウェーハのテクスチャリングは、ウェーハの用途に応じて行われます。このようなタスクを実行するために使用される装置は、ウェーハ加工装置として知られています。
ウェーハ加工装置の需要は、様々な電子機器にウェーハを多用することによるもので、そのペースはますます速くなっています。また、ウェーハ製造のための原材料の低コスト化は、ウェーハ加工装置の採用を後押しするそのようなコンポーネントの価格の低下につながります。

しかし、米中戦争により、北米の電子製品製造に深刻な影響が及んでいます。一方、無駄のない電子ガジェットを設計するための軽量電子部品の進化は、市場の新たな始まりを提供することが期待されています。

ウェーハ加工装置市場は、プロセス、用途、エンドユーザー、地域によって区分されます。プロセス別では、ウェーハ処理装置市場は蒸着、エッチング、質量計測、ストリップ&クリーンに分類されます。用途別では、ダイシング、グラインディング&プロービング、ポリッシング、エッジシェイピング、クリーニングに分類されます。エンドユーザー別では、コンピュータ、通信、消費者、工業、その他に分類されます。地域別では、北米(米国、カナダ、メキシコ)、欧州(ドイツ、英国、フランス、イタリア、その他欧州)、アジア太平洋(中国、インド、日本、韓国、その他アジア太平洋)、LAMEA(中南米、中東、アフリカ)に市場を分けて分析しています。

ウェーハ加工装置市場レポートに掲載されている主要企業には、Applied Materials, Inc、株式会社ディスコ、Hitachi kokusai linear、KLA Corporation、Lam Research Corporation、Motorola Solutions, Inc. 株式会社ニコン、Plasma-Therm、SPTS technologies Ltd、東京エレクトロン株式会社などです。

ステークホルダーにとっての主なメリット
・この調査レポートは、世界のウェーハ加工装置市場を詳細に分析し、現在の動向と将来予測を提供することで、差し迫った投資ポケットを明らかにします。
・市場成長の促進要因と制限要因の包括的な分析を提供します。
・2021年から2031年までの業界の包括的な定量分析を提供し、利害関係者が優勢な市場機会を活用できるようにします。
・市場の競争展望を理解するために、主要な市場プレイヤーとその戦略を分析しています。

〈主要市場セグメント〉
プロセス別
デポジトン
エッチング
マスメトロロジー
ストリップ&クリーン

用途別
研削&プロービング
研磨
エッジシェイプ
クリーニング
ダイシング

エンドユーザー別
コンピュータ
通信
消費者
工業
その他

地域別
・北米
米国
カナダ
メキシコ
・ヨーロッパ
ドイツ
フランス
イギリス
イタリア
その他のヨーロッパ
・アジア太平洋
中国
日本
韓国
インド
その他のアジア太平洋地域
・LAMEA
ラテンアメリカ
中東
アフリカ

〈主要市場プレイヤー〉
東京エレクトロン株式会社
Lam Research Corporation
Applied Materials, Inc.
Spts technologies ltd.
Plasma- Therm
株式会社ニコン
KLA Corporation
株式会社ディスコ
Motorola Solutions, Inc.
Hitachi kokusai linear(日立国際電気グループ)

❖ レポートの目次 ❖

第1章:はじめに

1.1. レポートの概要

1.2. 主要市場セグメント

1.3. ステークホルダーにとっての主なメリット

1.4. 調査方法

1.4.1. 二次調査

1.4.2. 一次調査

1.4.3. アナリストツールとモデル

第2章:エグゼクティブサマリー

2.1. 調査の主な知見

2.2. CXOの視点

第3章:市場概要

3.1. 市場の定義と範囲

3.2. 主な知見

3.2.1. 主要投資先

3.3. ポーターの5つの力分析

3.4. 主要プレーヤーのポジショニング

3.5. 市場ダイナミクス

3.5.1. 市場成長の牽引要因

3.5.2. 制約要因

3.5.3. 機会

3.6. COVID-19による市場への影響分析

第4章:ウェーハ処理装置市場(プロセス別)

4.1 概要

4.1.1 市場規模と予測

4.2 成膜

4.2.1 主要市場動向、成長要因、機会

4.2.2 地域別市場規模と予測

4.2.3 国別市場シェア分析

4.3 エッチング

4.3.1 主要市場動向、成長要因、機会

4.3.2 地域別市場規模と予測

4.3.3 国別市場シェア分析

4.4 質量計測

4.4.1 主要市場動向、成長要因、機会

4.4.2 地域別市場規模と予測

4.4.3 市場シェア国別分析

4.5 ストリップ&クリーニング

4.5.1 主要市場動向、成長要因、機会

4.5.2 地域別市場規模と予測

4.5.3 国別市場シェア分析

第5章:ウェーハ処理装置市場(アプリケーション別)

5.1 概要

5.1.1 市場規模と予測

5.2 ダイシング

5.2.1 主要市場動向、成長要因、機会

5.2.2 地域別市場規模と予測

5.2.3 国別市場シェア分析

5.3 研削・プロービング

5.3.1 主要市場動向、成長要因、機会

5.3.2 地域別市場規模と予測

5.3.3 国別市場シェア分析

5.4 ポリッシング

5.4.1 主要市場動向、成長要因、機会

5.4.2 市場地域別市場規模と予測

5.4.3 国別市場シェア分析

5.5 エッジシェーピング

5.5.1 主要市場動向、成長要因、機会

5.5.2 地域別市場規模と予測

5.5.3 国別市場シェア分析

5.6 洗浄

5.6.1 主要市場動向、成長要因、機会

5.6.2 地域別市場規模と予測

5.6.3 国別市場シェア分析

第6章:ウェーハ処理装置市場(エンドユーザー別)

6.1 概要

6.1.1 市場規模と予測

6.2 コンピュータ

6.2.1 主要市場動向、成長要因、機会

6.2.2 地域別市場規模と予測

6.2.3 国別市場シェア分析

6.3 通信

6.3.1 主要市場動向、成長要因、機会機会

6.3.2 地域別市場規模と予測

6.3.3 国別市場シェア分析

6.4 コンシ​​ューマー

6.4.1 主要市場動向、成長要因、機会

6.4.2 地域別市場規模と予測

6.4.3 国別市場シェア分析

6.5 産業用

6.5.1 主要市場動向、成長要因、機会

6.5.2 地域別市場規模と予測

6.5.3 国別市場シェア分析

6.6 その他

6.6.1 主要市場動向、成長要因、機会

6.6.2 地域別市場規模と予測

6.6.3 国別市場シェア分析

第7章:ウェーハ処理装置市場(地域別)

7.1 概要

7.1.1 市場規模と予測

7.2 北米

7.2.1主要トレンドと機会

7.2.2 北米市場規模と予測(プロセス別)

7.2.3 北米市場規模と予測(アプリケーション別)

7.2.4 北米市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.2.5 北米市場規模と予測(国別)

7.2.5.1 米国

7.2.5.1.1 主要市場トレンド、成長要因、機会

7.2.5.1.2 市場規模と予測(プロセス別)

7.2.5.1.3 市場規模と予測(アプリケーション別)

7.2.5.1.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.2.5.2 カナダ

7.2.5.2.1 主要市場トレンド、成長要因、機会

7.2.5.2.2 市場規模と予測(プロセス別)

7.2.5.2.3 市場規模と予測(アプリケーション別)

7.2.5.2.4市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.2.5.3 メキシコ

7.2.5.3.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.2.5.3.2 市場規模と予測(プロセス別)

7.2.5.3.3 市場規模と予測(アプリケーション別)

7.2.5.3.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.3 ヨーロッパ

7.3.1 主要な市場動向と機会

7.3.2 ヨーロッパ市場規模と予測(プロセス別)

7.3.3 ヨーロッパ市場規模と予測(アプリケーション別)

7.3.4 ヨーロッパ市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.3.5 ヨーロッパ市場規模と予測(国別)

7.3.5.1 ドイツ

7.3.5.1.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.3.5.1.2 市場規模と予測(プロセス別)

7.3.5.1.3 市場規模とアプリケーション別予測

7.3.5.1.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.3.5.2 フランス

7.3.5.2.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.3.5.2.2 プロセス別市場規模と予測

7.3.5.2.3 アプリケーション別市場規模と予測

7.3.5.2.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.3.5.3 英国

7.3.5.3.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.3.5.3.2 プロセス別市場規模と予測

7.3.5.3.3 アプリケーション別市場規模と予測

7.3.5.3.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.3.5.4 イタリア

7.3.5.4.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.3.5.4.2 市場プロセス別市場規模と予測

7.3.5.4.3 アプリケーション別市場規模と予測

7.3.5.4.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.3.5.5 その他ヨーロッパ地域

7.3.5.5.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.3.5.5.2 プロセス別市場規模と予測

7.3.5.5.3 アプリケーション別市場規模と予測

7.3.5.5.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.4 アジア太平洋地域

7.4.1 主要動向と機会

7.4.2 プロセス別アジア太平洋地域市場規模と予測

7.4.3 アプリケーション別アジア太平洋地域市場規模と予測

7.4.4 エンドユーザー別アジア太平洋地域市場規模と予測

7.4.5 国別アジア太平洋地域市場規模と予測

7.4.5.1 中国

7.4.5.1.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.4.5.1.2 プロセス別市場規模と予測

7.4.5.1.3 アプリケーション別市場規模と予測

7.4.5.1.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.4.5.2 日本

7.4.5.2.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.4.5.2.2 プロセス別市場規模と予測

7.4.5.2.3 アプリケーション別市場規模と予測

7.4.5.2.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.4.5.3 韓国

7.4.5.3.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.4.5.3.2 プロセス別市場規模と予測

7.4.5.3.3 エンドユーザー別市場規模と予測アプリケーション

7.4.5.3.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.4.5.4 インド

7.4.5.4.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.4.5.4.2 市場規模と予測(プロセス別)

7.4.5.4.3 市場規模と予測(アプリケーション別)

7.4.5.4.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.4.5.5 その他アジア太平洋地域

7.4.5.5.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.4.5.5.2 市場規模と予測(プロセス別)

7.4.5.5.3 市場規模と予測(アプリケーション別)

7.4.5.5.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.5 LAMEA

7.5.1 主要な市場動向と機会

7.5.2 LAMEA 市場規模と予測(エンドユーザー別)プロセス

7.5.3 LAMEA市場規模と予測(アプリケーション別)

7.5.4 LAMEA市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.5.5 LAMEA市場規模と予測(国別)

7.5.5.1 ラテンアメリカ

7.5.5.1.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.5.5.1.2 市場規模と予測(プロセス別)

7.5.5.1.3 市場規模と予測(アプリケーション別)

7.5.5.1.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.5.5.2 中東

7.5.5.2.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.5.5.2.2 市場規模と予測(プロセス別)

7.5.5.2.3 市場規模と予測(アプリケーション別)

7.5.5.2.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.5.5.3アフリカ

7.5.5.3.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.5.5.3.2 プロセス別市場規模と予測

7.5.5.3.3 アプリケーション別市場規模と予測

7.5.5.3.4 エンドユーザー別市場規模と予測

第8章:企業概要

8.1. はじめに

8.2. 成功戦略

8.3. 上位10社の製品マッピング

8.4. 競合ダッシュボード

8.5. 競合ヒートマップ

8.6.主要動向

第9章:企業概要

9.1 東京エレクトロン株式会社

9.1.1 会社概要

9.1.2 会社概要

9.1.3 事業セグメント

9.1.4 製品ポートフォリオ

9.1.5 業績

9.1.6 主要な戦略的施策と展開

9.2 ラムリサーチ株式会社

9.2.1 会社概要

9.2.2 会社概要

9.2.3 事業セグメント

9.2.4 製品ポートフォリオ

9.2.5 業績

9.2.6 主要な戦略的施策と展開

9.3 アプライド マテリアルズ株式会社

9.3.1 会社概要

9.3.2 会社概要

9.3.3 事業セグメント

9.3.4 製品ポートフォリオ

9.3.5 業績

9.3.6 主要な戦略的施策および開発

9.4 SPTSテクノロジーズ株式会社

9.4.1 会社概要

9.4.2 会社概要

9.4.3 事業セグメント

9.4.4 製品ポートフォリオ

9.4.5 業績

9.4.6 主要な戦略的取り組みと開発

9.5 プラズマサーモ

9.5.1 会社概要

9.5.2 会社概要

9.5.3 事業セグメント

9.5.4 製品ポートフォリオ

9.5.5 業績

9.5.6 主要な戦略的取り組みと開発

9.6 株式会社ニコン

9.6.1 会社概要

9.6.2 会社概要

9.6.3 事業セグメント

9.6.4 製品ポートフォリオ

9.6.5 業績

9.6.6 主要な戦略的取り組みと開発

9.7 KLA株式会社

9.7.1 会社概要

9.7.2 会社概要

9.7.3 事業セグメント

9.7.4 製品ポートフォリオ

9.7.5 業績

9.7.6 主要な戦略的施策と展開

9.8 ディスコ

9.8.1 会社概要

9.8.2 会社概要

9.8.3 事業セグメント

9.8.4 製品ポートフォリオ

9.8.5 業績

9.8.6 主要な戦略的施策と展開

9.9 モトローラソリューションズ

9.9.1 会社概要

9.9.2 会社概要

9.9.3 事業セグメント

9.9.4 製品ポートフォリオ

9.9.5 業績

9.9.6 主要な戦略的施策と展開

9.10 日立国際リニア

9.10.1 会社概要

9.10.2 会社概要

9.10.3 事業セグメント

9.10.4 製品ポートフォリオ

9.10.5 業績

9.10.6 主要な戦略的取り組みと展開

CHAPTER 1:INTRODUCTION
1.1.Report description
1.2.Key market segments
1.3.Key benefits to the stakeholders
1.4.Research Methodology
1.4.1.Secondary research
1.4.2.Primary research
1.4.3.Analyst tools and models
CHAPTER 2:EXECUTIVE SUMMARY
2.1.Key findings of the study
2.2.CXO Perspective
CHAPTER 3:MARKET OVERVIEW
3.1.Market definition and scope
3.2.Key findings
3.2.1.Top investment pockets
3.3.Porter’s five forces analysis
3.4.Top player positioning
3.5.Market dynamics
3.5.1.Drivers
3.5.2.Restraints
3.5.3.Opportunities
3.6.COVID-19 Impact Analysis on the market
CHAPTER 4: WAFER PROCESSING EQUIPMENT MARKET, BY PROCESS
4.1 Overview
4.1.1 Market size and forecast
4.2 Depositon
4.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.2.2 Market size and forecast, by region
4.2.3 Market share analysis by country
4.3 Etch
4.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.3.2 Market size and forecast, by region
4.3.3 Market share analysis by country
4.4 Mass Metrology
4.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.4.2 Market size and forecast, by region
4.4.3 Market share analysis by country
4.5 Strip and Clean
4.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.5.2 Market size and forecast, by region
4.5.3 Market share analysis by country
CHAPTER 5: WAFER PROCESSING EQUIPMENT MARKET, BY  APPLICATION
5.1 Overview
5.1.1 Market size and forecast
5.2 Dicing
5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.2.2 Market size and forecast, by region
5.2.3 Market share analysis by country
5.3 Grinding and Probing
5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.3.2 Market size and forecast, by region
5.3.3 Market share analysis by country
5.4 Polishing
5.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.4.2 Market size and forecast, by region
5.4.3 Market share analysis by country
5.5 Edge Shaping
5.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.5.2 Market size and forecast, by region
5.5.3 Market share analysis by country
5.6 Cleaning
5.6.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.6.2 Market size and forecast, by region
5.6.3 Market share analysis by country
CHAPTER 6: WAFER PROCESSING EQUIPMENT MARKET, BY END USER
6.1 Overview
6.1.1 Market size and forecast
6.2 Computer
6.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.2.2 Market size and forecast, by region
6.2.3 Market share analysis by country
6.3 Communication
6.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.3.2 Market size and forecast, by region
6.3.3 Market share analysis by country
6.4 Consumer
6.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.4.2 Market size and forecast, by region
6.4.3 Market share analysis by country
6.5 Industrial
6.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.5.2 Market size and forecast, by region
6.5.3 Market share analysis by country
6.6 Others
6.6.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.6.2 Market size and forecast, by region
6.6.3 Market share analysis by country
CHAPTER 7: WAFER PROCESSING EQUIPMENT MARKET, BY REGION
7.1 Overview
7.1.1 Market size and forecast
7.2 North America
7.2.1 Key trends and opportunities
7.2.2 North America Market size and forecast, by Process
7.2.3 North America Market size and forecast, by  Application
7.2.4 North America Market size and forecast, by End User
7.2.5 North America Market size and forecast, by country
7.2.5.1 U.S.
7.2.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.2.5.1.2 Market size and forecast, by Process
7.2.5.1.3 Market size and forecast, by  Application
7.2.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.2.5.2 Canada
7.2.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.2.5.2.2 Market size and forecast, by Process
7.2.5.2.3 Market size and forecast, by  Application
7.2.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.2.5.3 Mexico
7.2.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.2.5.3.2 Market size and forecast, by Process
7.2.5.3.3 Market size and forecast, by  Application
7.2.5.3.4 Market size and forecast, by End User
7.3 Europe
7.3.1 Key trends and opportunities
7.3.2 Europe Market size and forecast, by Process
7.3.3 Europe Market size and forecast, by  Application
7.3.4 Europe Market size and forecast, by End User
7.3.5 Europe Market size and forecast, by country
7.3.5.1 Germany
7.3.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.1.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.1.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.2 France
7.3.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.2.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.2.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.3 UK
7.3.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.3.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.3.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.3.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.4 Italy
7.3.5.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.4.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.4.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.4.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.5 Rest of Europe
7.3.5.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.5.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.5.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.5.4 Market size and forecast, by End User
7.4 Asia-Pacific
7.4.1 Key trends and opportunities
7.4.2 Asia-Pacific Market size and forecast, by Process
7.4.3 Asia-Pacific Market size and forecast, by  Application
7.4.4 Asia-Pacific Market size and forecast, by End User
7.4.5 Asia-Pacific Market size and forecast, by country
7.4.5.1 China
7.4.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.1.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.1.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.2 Japan
7.4.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.2.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.2.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.3 South Korea
7.4.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.3.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.3.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.3.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.4 India
7.4.5.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.4.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.4.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.4.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.5 Rest of Asia-Pacific
7.4.5.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.5.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.5.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.5.4 Market size and forecast, by End User
7.5 LAMEA
7.5.1 Key trends and opportunities
7.5.2 LAMEA Market size and forecast, by Process
7.5.3 LAMEA Market size and forecast, by  Application
7.5.4 LAMEA Market size and forecast, by End User
7.5.5 LAMEA Market size and forecast, by country
7.5.5.1 Latin America
7.5.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.5.5.1.2 Market size and forecast, by Process
7.5.5.1.3 Market size and forecast, by  Application
7.5.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.5.5.2 Middle East
7.5.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.5.5.2.2 Market size and forecast, by Process
7.5.5.2.3 Market size and forecast, by  Application
7.5.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.5.5.3 Africa
7.5.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.5.5.3.2 Market size and forecast, by Process
7.5.5.3.3 Market size and forecast, by  Application
7.5.5.3.4 Market size and forecast, by End User
CHAPTER 8: COMPANY LANDSCAPE
8.1. Introduction
8.2. Top winning strategies
8.3. Product Mapping of Top 10 Player
8.4. Competitive Dashboard
8.5. Competitive Heatmap
8.6. Key developments
CHAPTER 9: COMPANY PROFILES
9.1 Tokyo Electron Limited
9.1.1 Company overview
9.1.2 Company snapshot
9.1.3 Operating business segments
9.1.4 Product portfolio
9.1.5 Business performance
9.1.6 Key strategic moves and developments
9.2 Lam Research Corporation
9.2.1 Company overview
9.2.2 Company snapshot
9.2.3 Operating business segments
9.2.4 Product portfolio
9.2.5 Business performance
9.2.6 Key strategic moves and developments
9.3 Applied Materials, Inc.
9.3.1 Company overview
9.3.2 Company snapshot
9.3.3 Operating business segments
9.3.4 Product portfolio
9.3.5 Business performance
9.3.6 Key strategic moves and developments
9.4 spts technologies ltd
9.4.1 Company overview
9.4.2 Company snapshot
9.4.3 Operating business segments
9.4.4 Product portfolio
9.4.5 Business performance
9.4.6 Key strategic moves and developments
9.5 plasma-therm
9.5.1 Company overview
9.5.2 Company snapshot
9.5.3 Operating business segments
9.5.4 Product portfolio
9.5.5 Business performance
9.5.6 Key strategic moves and developments
9.6 Nikon Corporation
9.6.1 Company overview
9.6.2 Company snapshot
9.6.3 Operating business segments
9.6.4 Product portfolio
9.6.5 Business performance
9.6.6 Key strategic moves and developments
9.7 KLA Corporation
9.7.1 Company overview
9.7.2 Company snapshot
9.7.3 Operating business segments
9.7.4 Product portfolio
9.7.5 Business performance
9.7.6 Key strategic moves and developments
9.8 DISCO
9.8.1 Company overview
9.8.2 Company snapshot
9.8.3 Operating business segments
9.8.4 Product portfolio
9.8.5 Business performance
9.8.6 Key strategic moves and developments
9.9 Motorola Solutions, Inc.
9.9.1 Company overview
9.9.2 Company snapshot
9.9.3 Operating business segments
9.9.4 Product portfolio
9.9.5 Business performance
9.9.6 Key strategic moves and developments
9.10 hitachi kokusai linear
9.10.1 Company overview
9.10.2 Company snapshot
9.10.3 Operating business segments
9.10.4 Product portfolio
9.10.5 Business performance
9.10.6 Key strategic moves and developments
※参考情報

ウェーハ加工装置は、半導体製造プロセスにおいて、シリコンウェーハを加工するための装置を指します。この装置は、半導体デバイスの製造に不可欠な役割を果たし、主にエッチング、成膜、リソグラフィー、ダイシング、CMPなどの処理を行います。ウェーハは、シリコンなどの材料から切り出された薄い円盤状のものであり、この惑妨することによって、最終的にトランジスタやその他の回路要素を形成することができます。
ウェーハ加工のプロセスは複雑で、多くの異なる装置が連携して機能します。リソグラフィー装置は、光を利用してフォトレジストと呼ばれる感光性材料にパターンを転写します。これにより回路パターンが形成され、その後、エッチング装置で不要なシリコンを除去し、回路を実体化します。成膜装置は薄膜をウェーハの表面に形成するもので、これには化学気相成長(CVD)や物理気相成長(PVD)などの技術が使われます。

エッチングは、ウェーハ上に形成したパターンを具体化するための重要なステップです。このプロセスにはドライエッチングとウェットエッチングと呼ばれる二つの手法があり、ドライエッチングはプラズマを使用してガス状のエッチャントを利用し、ウェットエッチングは化学薬品を使用して液体で処理を行います。エッチング装置の選定は、処理速度や精度、材料によって異なるため、さまざまな種類が市場に存在しています。

ダイシング装置は、加工後のウェーハを個々のチップに切り分けるための機器です。このプロセスは非常に繊細で、ミクロン単位の精度が求められます。ダイシング後、ウェーハチップはテストやパッケージングの工程に進みます。また、CMP(化学機械的平坦化)装置は、表面を均一にするためのプロセスで、ウェーハの表面を平滑にし、次の加工ステップに適した状態に整えます。

ウェーハ加工装置は、その精度や処理速度によって、半導体の性能や歩留まりに大きく影響を与えます。そのため、設計や製造には高度な技術と専門知識が必要です。近年では、微細化技術が進展し、より高機能な半導体の需要が高まる中で、ウェーハ加工装置の性能向上や新技術の開発が求められています。たとえば、最先端のリソグラフィーでは、極紫外線(EUV)を利用した技術が注目を集めています。これにより、さらに微細な回路を形成することが可能となり、次世代の半導体製造が見込まれています。

また、環境への配慮も重要な要素となっており、エネルギー効率の良い装置が求められています。これに伴い、プロセス全体の最適化や廃棄物の低減が進められています。デジタル化やAI技術の導入も進んでおり、プロセスのモニタリングや予測保守を行うことで、運転コストの削減や生産性の向上が期待されています。

ウェーハ加工装置のメーカーは、グローバルで競争が激しく、高度な技術力と信頼性が求められます。これらの装置は、スマートフォンやコンピューター、自動車など、さまざまな電子機器の中で利用されており、その発展は社会全体のテクノロジーの進化に寄与しています。

今後も、ウェーハ加工装置は半導体業界の中で中心的な役割を果たすと考えられています。新たな材料やプロセス技術の研究開発が進む中、ウェーハ加工装置の進化も続くでしょう。


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★リサーチレポート[ ウェーハ加工装置の世界市場2021-2031:機会分析・産業予測(Wafer Processing Equipment Market By Process (Depositon, Etch, Mass Metrology, Strip and Clean), By  Application (Dicing, Grinding and Probing, Polishing, Edge Shaping, Cleaning), By End User (Computer, Communication, Consumer, Industrial, Others): Global Opportunity Analysis and Industry Forecast, 2021-2031)]についてメールでお問い合わせはこちらでお願いします。
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