半導体エッチング装置の世界市場2021-2031:機会分析・産業予測

◆英語タイトル:Semiconductor Etch Equipment Market By Type (Wet etch equipment, Dry etch equipment), By Process (Conductor Etch, Dielectric Etch), By End User (Integrated device manufacturers, Foundry, Memory manufacturers): Global Opportunity Analysis and Industry Forecast, 2021-2031

Allied Market Researchが発行した調査報告書(ALD23MA029)◆商品コード:ALD23MA029
◆発行会社(リサーチ会社):Allied Market Research
◆発行日:2022年12月
   最新版(2025年又は2026年)はお問い合わせください。
◆ページ数:230
◆レポート形式:英語 / PDF
◆納品方法:Eメール(受注後24時間以内)
◆調査対象地域:グローバル
◆産業分野:半導体
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❖ レポートの概要 ❖

アライドマーケットリサーチ社の本市場調査レポートでは、2021年に20,455.6百万ドルであった世界の半導体エッチング装置市場規模が、2031年までに46,382.5百万ドルに達し、2022年から2031年の間に年平均8.3%で拡大すると展望しています。本レポートは、半導体エッチング装置の世界市場について徹底的に調査・分析を行い、イントロダクション、エグゼクティブサマリー、市場概要、種類別(ウェットエッチング装置、ドライエッチング装置)分析、プロセス別(コンダクターエッチング、誘導体エッチング)分析、エンドユーザー別(集積デバイスメーカー、鋳造、メモリメーカー)分析、地域別(北米、ヨーロッパ、アジア太平洋、中南米・中東・アフリカ)分析、競争状況、企業情報などを整理しています。また、主な参入企業として、Applied Materials, Inc.、Spts technologies ltd.、Panasonic Industry Co., Ltd.、EV Group (EVG)、Samco inc.、ASML Holding NV、Hitachi High-Technologies Corp (HHT)、Tokyo Electron Limited、Shenzhen Delphi Laser & Robot Co., Ltd.、Ulvacなどの情報が含まれています。
・イントロダクション
・エグゼクティブサマリー
・市場概要
・世界の半導体エッチング装置市場規模:種類別
- ウェットエッチング装置の市場規模
- ドライエッチング装置の市場規模
・世界の半導体エッチング装置市場規模:プロセス別
- コンダクターエッチングの市場規模
- 誘導体エッチングの市場規模
・世界の半導体エッチング装置市場規模:エンドユーザー別
- 集積デバイスメーカーにおける市場規模
- 鋳造における市場規模
- メモリメーカーにおける市場規模
・世界の半導体エッチング装置市場規模:地域別
- 北米の半導体エッチング装置市場規模
- ヨーロッパの半導体エッチング装置市場規模
- アジア太平洋の半導体エッチング装置市場規模
- 中南米・中東・アフリカの半導体エッチング装置市場規模
・競争状況
・企業情報

世界の半導体エッチング装置市場は、2021年に204億5,560万ドル、2031年には463億8,250万ドルに達すると予測され、2022年から2031年までのCAGRは8.3%となる見込みです。
ウェットエッチング法またはドライエッチング法は、シリコンウェーハ基板の表面から特定の材料を除去するために半導体エッチング装置で使用されます。ウェットエッチング法では、化学薬品を使用してシリコンウェーハ基板から選択材料を除去します。ドライエッチングでは、プラズマイオンを用いてシリコンウェーハ基板から選択材料を除去します。半導体の用途に適したパターンを開発するため、エッチング工程では半導体の表面から材料を除去します。

市場は主に半導体産業の急成長によって牽引されています。世界のエレクトロニクス分野で最も重要な要件のひとつは、半導体を製造するための装置です。炭化ケイ素(SiC)半導体を現代の兵器や装備に統合するユニークな方法が、米陸軍の研究者によって開発されています。さらに、消費者の電子機器に対するニーズの高まりがチップ需要を増加させ、予測期間中に半導体エッチング装置の需要を間接的に増加させると予想されています。半導体チップの需要を牽引しているのは、患者の増加に伴う医療機器におけるハイブリッド回路のニーズの高まりです。例えば、国連の推計によると、この地域の60歳以上の人口は2024年までに8億655万人に達する可能性があります。

電気回路基板市場は、民生用電子機器の需要の変化によって刺激され、それが半導体エッチング装置の需要につながると予想されます。このような事例は、市場の成長を増強すると予想されます。半導体エッチング装置に使用される森林伐採、金属、その他の材料に対する政府主導の厳しい法律、関税、規制は、メーカーの収益と利益を大幅に減少させています。例えば、2018年に米国政府は金属の輸入関税を(2020年2月から有効)鉄鋼に25%、アルミニウムに10%引き上げ、米国におけるこれらの金属のコストをさらに上昇させました。したがって、金属やその他の材料の価格の変動は、予測期間中の半導体エッチング装置市場の成長を制限すると予想されます。
半導体エッチング装置の需要は、半導体産業に対する政府当局の関心の変化にも大きく影響されます。例えば、Boschは2022年2月、ドイツのロイトリンゲンにあるウェーハ製造施設の規模を拡大すると発表しました。2025年までに、Boschは新たな生産施設とそれに必要な設備に2億5,000万ユーロ(2億7,820万米ドル)以上を投資する予定です。このような成長戦略は、多くの成長機会を提供し、半導体エッチング装置市場を促進しています。

半導体エッチング装置市場は、種類、プロセス、エンドユーザー産業、地域に区分されます。種類別では、ウェットエッチング装置とドライエッチング装置に二分されます。プロセス別では、導体エッチングと誘電体エッチングに分別されます。エンドユーザー産業別では、集積デバイスメーカー、ファウンドリー、メモリーメーカーに分類されます。地域別では、市場は北米、欧州、アジア太平洋、LAMEAで分析されます。

ステークホルダーにとっての主なメリット
・本レポートは、2021年から2031年までの半導体エッチング装置市場分析の市場セグメント、現在の動向、予測、ダイナミクスを定量的に分析し、半導体エッチング装置市場の有力な機会を特定します。
・主要な促進要因、阻害要因、機会に関する情報とともに市場調査を提供します。
・ポーターのファイブフォース分析により、バイヤーとサプライヤーの潜在力を明らかにし、ステークホルダーが利益重視のビジネス決定を下し、サプライヤーとバイヤーのネットワークを強化できるようにします。
・半導体エッチング装置市場のセグメンテーションを詳細に分析し、市場機会を把握します。
・各地域の主要国を世界市場への収益貢献度に応じてマッピングしています。
・市場プレイヤーのポジショニングはベンチマーキングを容易にし、市場プレイヤーの現在のポジションを明確に理解することができます。
・地域別および世界別の半導体エッチング装置市場動向、主要企業、市場セグメント、応用分野、市場成長戦略の分析を含みます。

〈主要市場セグメント〉
種類別
ウェットエッチング装置
ドライエッチング装置

プロセス別
誘電体エッチング
導体エッチング

エンドユーザー別
集積デバイスメーカー
ファウンドリ
メモリメーカー

地域別
・北米
米国
カナダ
メキシコ
・ヨーロッパ
ドイツ
フランス
イギリス
イタリア
その他のヨーロッパ
・アジア太平洋
中国
日本
台湾
韓国
その他のアジア太平洋地域
・LAMEA
ラテンアメリカ
中東
アフリカ

〈主要市場プレイヤー〉
Applied Materials, Inc.
Spts technologies ltd.
パナソニック株式会社
EV Group (EVG)
Samco inc.
ASML Holding NV
株式会社日立ハイテク
東京エレクトロン株式会社
Shenzhen Delphi Laser & Robot Co., Ltd.
Ulvac

❖ レポートの目次 ❖

第1章:はじめに

1.1. レポートの概要

1.2. 主要市場セグメント

1.3. ステークホルダーにとっての主なメリット

1.4. 調査方法

1.4.1. 二次調査

1.4.2. 一次調査

1.4.3. アナリストツールとモデル

第2章:エグゼクティブサマリー

2.1. 調査の主な知見

2.2. CXOの視点

第3章:市場概要

3.1. 市場の定義と範囲

3.2. 主な知見

3.2.1. 主要投資先

3.3. ポーターの5つの力分析

3.4. 市場ダイナミクス

3.4.1. 市場を牽引する要因

3.4.1.1.原材料価格の変動

3.4.2. 制約要因

3.4.2.1. 半導体産業の急速な成長

3.4.2.2. エレクトロニクス製品の需要増加

3.4.2.3. ハイブリッド回路の需要増加

3.4.3. 機会

3.4.3.1. 政府機関の半導体産業への重点移行

3.5. COVID-19による市場への影響分析

第4章:半導体エッチング装置市場(タイプ別)

4.1 概要

4.1.1 市場規模と予測

4.2. ウェットエッチング装置

4.2.1 主要な市場動向、成長要因、機会

4.2.2 地域別市場規模と予測

4.2.3 国別市場シェア分析

4.3.ドライエッチング装置

4.3.1 主要市場動向、成長要因、機会

4.3.2 地域別市場規模と予測

4.3.3 国別市場シェア分析

第5章:半導体エッチング装置市場(プロセス別)

5.1 概要

5.1.1 市場規模と予測

5.2. 導体エッチング

5.2.1 主要市場動向、成長要因、機会

5.2.2 地域別市場規模と予測

5.2.3 国別市場シェア分析

5.3.絶縁膜エッチング

5.3.1 主要市場動向、成長要因、機会

5.3.2 地域別市場規模と予測

5.3.3 国別市場シェア分析

第6章:半導体エッチング装置市場(エンドユーザー別)

6.1 概要

6.1.1 市場規模と予測

6.2. 統合デバイスメーカー

6.2.1 主要市場動向、成長要因、機会

6.2.2 地域別市場規模と予測

6.2.3 国別市場シェア分析

6.3. ファウンドリ

6.3.1 主要市場動向、成長要因、機会

6.3.2 地域別市場規模と予測

6.3.3 国別市場シェア分析

6.4.メモリメーカー

6.4.1 主要市場動向、成長要因、機会

6.4.2 地域別市場規模と予測

6.4.3 国別市場シェア分析

第7章:半導体エッチング装置市場(地域別)

7.1 概要

7.1.1 市場規模と予測

7.2 北米

7.2.1 主要動向と機会

7.2.2 北米市場規模と予測(タイプ別)

7.2.3 北米市場規模と予測(プロセス別)

7.2.4 北米市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.2.5 北米市場規模と予測(国別)

7.2.5.1 米国

7.2.5.1.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.2.5.1.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.2.5.1.3 プロセス別市場規模と予測

7.2.5.1.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.2.5.2 カナダ

7.2.5.2.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.2.5.2.2 タイプ別市場規模と予測

7.2.5.2.3 プロセス別市場規模と予測

7.2.5.2.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.2.5.3 メキシコ

7.2.5.3.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.2.5.3.2 タイプ別市場規模と予測

7.2.5.3.3 プロセス別市場規模と予測

7.2.5.3.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.3 ヨーロッパ

7.3.1 主要な動向と機会

7.3.2 ヨーロッパ市場規模とタイプ別予測

7.3.3 ヨーロッパ市場規模と予測(プロセス別)

7.3.4 ヨーロッパ市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.3.5 ヨーロッパ市場規模と予測(国別)

7.3.5.1 ドイツ

7.3.5.1.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.3.5.1.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.3.5.1.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.3.5.1.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.3.5.2 フランス

7.3.5.2.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.3.5.2.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.3.5.2.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.3.5.2.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.3.5.3 英国

7.3.5.3.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.3.5.3.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.3.5.3.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.3.5.3.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.3.5.4 イタリア

7.3.5.4.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.3.5.4.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.3.5.4.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.3.5.4.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.3.5.5 その他のヨーロッパ地域

7.3.5.5.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.3.5.5.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.3.5.5.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.3.5.5.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.4 アジア太平洋地域

7.4.1 主要トレンドと機会

7.4.2 アジア太平洋地域 市場規模と予測(タイプ別)

7.4.3 アジア太平洋地域 市場規模と予測(プロセス別)

7.4.4 アジア太平洋地域 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.4.5 アジア太平洋地域 市場規模と予測(国別)

7.4.5.1 中国

7.4.5.1.1 主要市場トレンド、成長要因、機会

7.4.5.1.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.4.5.1.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.4.5.1.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.4.5.2 日本

7.4.5.2.1 主要市場トレンド、成長要因、機会

7.4.5.2.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.4.5.2.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.4.5.2.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.4.5.3 台湾

7.4.5.3.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.4.5.3.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.4.5.3.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.4.5.3.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.4.5.4 韓国

7.4.5.4.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.4.5.4.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.4.5.4.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.4.5.4.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.4.5.5アジア太平洋地域の残り地域

7.4.5.5.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.4.5.5.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.4.5.5.3 市場規模と予測(プロセス別)

7.4.5.5.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.5 LAMEA

7.5.1 主要な市場動向と機会

7.5.2 LAMEA 市場規模と予測(タイプ別)

7.5.3 LAMEA 市場規模と予測(プロセス別)

7.5.4 LAMEA 市場規模と予測(エンドユーザー別)

7.5.5 LAMEA 市場規模と予測(国別)

7.5.5.1 ラテンアメリカ

7.5.5.1.1 主要な市場動向、成長要因、機会

7.5.5.1.2 市場規模と予測(タイプ別)

7.5.5.1.3 市場規模とプロセス別予測

7.5.5.1.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.5.5.2 中東

7.5.5.2.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.5.5.2.2 タイプ別市場規模と予測

7.5.5.2.3 プロセス別市場規模と予測

7.5.5.2.4 エンドユーザー別市場規模と予測

7.5.5.3 アフリカ

7.5.5.3.1 主要市場動向、成長要因、機会

7.5.5.3.2 タイプ別市場規模と予測

7.5.5.3.3 プロセス別市場規模と予測

7.5.5.3.4 エンドユーザー別市場規模と予測

第8章:競争環境

8.1. はじめに

8.2. 成功戦略

8.3.上位10社の製品マッピング

8.4. 競合ダッシュボード

8.5. 競合ヒートマップ

8.6. 2021年における上位企業のポジショニング

第9章:企業プ​​ロフィール

9.1 アプライド マテリアルズ

9.1.1 会社概要

9.1.2 主要役員

9.1.3 会社概要

9.1.4 事業セグメント

9.1.5 製品ポートフォリオ

9.1.6 業績

9.1.7 主要な戦略的取り組みと展開

9.2 SPTSテクノロジーズ株式会社

9.2.1 会社概要

9.2.2 主要役員

9.2.3 会社概要

9.2.4 事業セグメント

9.2.5 製品ポートフォリオ

9.2.6 業績

9.2.7 主要な戦略的取り組みと展開

9.3 パナソニックインダストリー株式会社

9.3.1 会社概要

9.3.2 主要役員

9.3.3 会社概要

9.3.4 事業セグメント

9.3.5 製品ポートフォリオ

9.3.6 業績

9.3.7 主要な戦略的取り組みと展開

9.4 EVグループ(EVG)

9.4.1 会社概要

9.4.2 主要役員

9.4.3 会社概要

9.4.4 事業セグメント

9.4.5 製品ポートフォリオ

9.4.6 業績

9.4.7 主要な戦略的動きと展開

9.5 サムコ株式会社

9.5.1 会社概要

9.5.2 主要役員

9.5.3 会社概要

9.5.4 事業セグメント

9.5.5 製品ポートフォリオ

9.5.6 業績

9.5.7 主要な戦略的施策と展開

9.6 ASML Holding NV

9.6.1 会社概要

9.6.2 主要役員

9.6.3 会社概要

9.6.4 事業セグメント

9.6.5 製品ポートフォリオ

9.6.6 業績

9.6.7 主要な戦略的施策と展開

9.7 日立ハイテクノロジーズ株式会社 (HHT)

9.7.1 会社概要

9.7.2 主要役員

9.7.3 会社概要

9.7.4 事業セグメント

9.7.5 製品ポートフォリオ

9.7.6 業績

9.7.7 主要な戦略的動きと展開

9.8 東京エレクトロン株式会社

9.8.1 会社概要

9.8.2 主要役員

9.8.3 会社概要

9.8.4 事業セグメント

9.8.5 製品ポートフォリオ

9.8.6 業績

9.8.7 主要な戦略的動きと展開

9.9 深圳デルファイレーザー&株式会社ロボット

9.9.1 会社概要

9.9.2 主要役員

9.9.3 会社概要

9.9.4 事業セグメント

9.9.5 製品ポートフォリオ

9.9.6 業績

9.9.7 主要な戦略的取り組みと展開

9.10 アルバック

9.10.1 会社概要

9.10.2 主要役員

9.10.3 会社概要

9.10.4 事業セグメント

9.10.5 製品ポートフォリオ

9.10.6 業績

9.10.7 主要な戦略的取り組みと展開

CHAPTER 1:INTRODUCTION
1.1.Report description
1.2.Key market segments
1.3.Key benefits to the stakeholders
1.4.Research Methodology
1.4.1.Secondary research
1.4.2.Primary research
1.4.3.Analyst tools and models
CHAPTER 2:EXECUTIVE SUMMARY
2.1.Key findings of the study
2.2.CXO Perspective
CHAPTER 3:MARKET OVERVIEW
3.1.Market definition and scope
3.2.Key findings
3.2.1.Top investment pockets
3.3.Porter’s five forces analysis
3.4.Market dynamics
3.4.1.Drivers
3.4.1.1. Fluctuation in raw material prices

3.4.2.Restraints
3.4.2.1. Rapid growth of the semiconductor industry
3.4.2.2. Growing demand for electronics products
3.4.2.3. Rise in demand for hybrid circuits

3.4.3.Opportunities
3.4.3.1. The shifting focus of government bodies toward the semiconductor industry

3.5.COVID-19 Impact Analysis on the market
CHAPTER 4: SEMICONDUCTOR ETCH EQUIPMENT MARKET, BY TYPE
4.1 Overview
4.1.1 Market size and forecast
4.2. Wet etch equipment
4.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.2.2 Market size and forecast, by region
4.2.3 Market share analysis by country
4.3. Dry etch equipment
4.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.3.2 Market size and forecast, by region
4.3.3 Market share analysis by country
CHAPTER 5: SEMICONDUCTOR ETCH EQUIPMENT MARKET, BY PROCESS
5.1 Overview
5.1.1 Market size and forecast
5.2. Conductor Etch
5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.2.2 Market size and forecast, by region
5.2.3 Market share analysis by country
5.3. Dielectric Etch
5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.3.2 Market size and forecast, by region
5.3.3 Market share analysis by country
CHAPTER 6: SEMICONDUCTOR ETCH EQUIPMENT MARKET, BY END USER
6.1 Overview
6.1.1 Market size and forecast
6.2. Integrated device manufacturers
6.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.2.2 Market size and forecast, by region
6.2.3 Market share analysis by country
6.3. Foundry
6.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.3.2 Market size and forecast, by region
6.3.3 Market share analysis by country
6.4. Memory manufacturers
6.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.4.2 Market size and forecast, by region
6.4.3 Market share analysis by country
CHAPTER 7: SEMICONDUCTOR ETCH EQUIPMENT MARKET, BY REGION
7.1 Overview
7.1.1 Market size and forecast
7.2 North America
7.2.1 Key trends and opportunities
7.2.2 North America Market size and forecast, by Type
7.2.3 North America Market size and forecast, by Process
7.2.4 North America Market size and forecast, by End User
7.2.5 North America Market size and forecast, by country
7.2.5.1 U.S.
7.2.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.2.5.1.2 Market size and forecast, by Type
7.2.5.1.3 Market size and forecast, by Process
7.2.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.2.5.2 Canada
7.2.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.2.5.2.2 Market size and forecast, by Type
7.2.5.2.3 Market size and forecast, by Process
7.2.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.2.5.3 Mexico
7.2.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.2.5.3.2 Market size and forecast, by Type
7.2.5.3.3 Market size and forecast, by Process
7.2.5.3.4 Market size and forecast, by End User
7.3 Europe
7.3.1 Key trends and opportunities
7.3.2 Europe Market size and forecast, by Type
7.3.3 Europe Market size and forecast, by Process
7.3.4 Europe Market size and forecast, by End User
7.3.5 Europe Market size and forecast, by country
7.3.5.1 Germany
7.3.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.1.2 Market size and forecast, by Type
7.3.5.1.3 Market size and forecast, by Process
7.3.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.2 France
7.3.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.2.2 Market size and forecast, by Type
7.3.5.2.3 Market size and forecast, by Process
7.3.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.3 UK
7.3.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.3.2 Market size and forecast, by Type
7.3.5.3.3 Market size and forecast, by Process
7.3.5.3.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.4 Italy
7.3.5.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.4.2 Market size and forecast, by Type
7.3.5.4.3 Market size and forecast, by Process
7.3.5.4.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.5 Rest of Europe
7.3.5.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.5.2 Market size and forecast, by Type
7.3.5.5.3 Market size and forecast, by Process
7.3.5.5.4 Market size and forecast, by End User
7.4 Asia-Pacific
7.4.1 Key trends and opportunities
7.4.2 Asia-Pacific Market size and forecast, by Type
7.4.3 Asia-Pacific Market size and forecast, by Process
7.4.4 Asia-Pacific Market size and forecast, by End User
7.4.5 Asia-Pacific Market size and forecast, by country
7.4.5.1 China
7.4.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.1.2 Market size and forecast, by Type
7.4.5.1.3 Market size and forecast, by Process
7.4.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.2 Japan
7.4.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.2.2 Market size and forecast, by Type
7.4.5.2.3 Market size and forecast, by Process
7.4.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.3 Taiwan
7.4.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.3.2 Market size and forecast, by Type
7.4.5.3.3 Market size and forecast, by Process
7.4.5.3.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.4 South Korea
7.4.5.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.4.2 Market size and forecast, by Type
7.4.5.4.3 Market size and forecast, by Process
7.4.5.4.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.5 Rest of Asia-Pacific
7.4.5.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.5.2 Market size and forecast, by Type
7.4.5.5.3 Market size and forecast, by Process
7.4.5.5.4 Market size and forecast, by End User
7.5 LAMEA
7.5.1 Key trends and opportunities
7.5.2 LAMEA Market size and forecast, by Type
7.5.3 LAMEA Market size and forecast, by Process
7.5.4 LAMEA Market size and forecast, by End User
7.5.5 LAMEA Market size and forecast, by country
7.5.5.1 Latin America
7.5.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.5.5.1.2 Market size and forecast, by Type
7.5.5.1.3 Market size and forecast, by Process
7.5.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.5.5.2 Middle East
7.5.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.5.5.2.2 Market size and forecast, by Type
7.5.5.2.3 Market size and forecast, by Process
7.5.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.5.5.3 Africa
7.5.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.5.5.3.2 Market size and forecast, by Type
7.5.5.3.3 Market size and forecast, by Process
7.5.5.3.4 Market size and forecast, by End User
CHAPTER 8: COMPETITIVE LANDSCAPE
8.1. Introduction
8.2. Top winning strategies
8.3. Product Mapping of Top 10 Player
8.4. Competitive Dashboard
8.5. Competitive Heatmap
8.6. Top player positioning, 2021
CHAPTER 9: COMPANY PROFILES
9.1 Applied Materials, Inc.
9.1.1 Company overview
9.1.2 Key Executives
9.1.3 Company snapshot
9.1.4 Operating business segments
9.1.5 Product portfolio
9.1.6 Business performance
9.1.7 Key strategic moves and developments
9.2 Spts technologies ltd.
9.2.1 Company overview
9.2.2 Key Executives
9.2.3 Company snapshot
9.2.4 Operating business segments
9.2.5 Product portfolio
9.2.6 Business performance
9.2.7 Key strategic moves and developments
9.3 Panasonic Industry Co., Ltd.
9.3.1 Company overview
9.3.2 Key Executives
9.3.3 Company snapshot
9.3.4 Operating business segments
9.3.5 Product portfolio
9.3.6 Business performance
9.3.7 Key strategic moves and developments
9.4 EV Group (EVG)
9.4.1 Company overview
9.4.2 Key Executives
9.4.3 Company snapshot
9.4.4 Operating business segments
9.4.5 Product portfolio
9.4.6 Business performance
9.4.7 Key strategic moves and developments
9.5 Samco inc.
9.5.1 Company overview
9.5.2 Key Executives
9.5.3 Company snapshot
9.5.4 Operating business segments
9.5.5 Product portfolio
9.5.6 Business performance
9.5.7 Key strategic moves and developments
9.6 ASML Holding NV
9.6.1 Company overview
9.6.2 Key Executives
9.6.3 Company snapshot
9.6.4 Operating business segments
9.6.5 Product portfolio
9.6.6 Business performance
9.6.7 Key strategic moves and developments
9.7 Hitachi High-Technologies Corp (HHT)
9.7.1 Company overview
9.7.2 Key Executives
9.7.3 Company snapshot
9.7.4 Operating business segments
9.7.5 Product portfolio
9.7.6 Business performance
9.7.7 Key strategic moves and developments
9.8 Tokyo Electron Limited
9.8.1 Company overview
9.8.2 Key Executives
9.8.3 Company snapshot
9.8.4 Operating business segments
9.8.5 Product portfolio
9.8.6 Business performance
9.8.7 Key strategic moves and developments
9.9 Shenzhen Delphi Laser & Robot Co., Ltd.
9.9.1 Company overview
9.9.2 Key Executives
9.9.3 Company snapshot
9.9.4 Operating business segments
9.9.5 Product portfolio
9.9.6 Business performance
9.9.7 Key strategic moves and developments
9.10 Ulvac
9.10.1 Company overview
9.10.2 Key Executives
9.10.3 Company snapshot
9.10.4 Operating business segments
9.10.5 Product portfolio
9.10.6 Business performance
9.10.7 Key strategic moves and developments
※参考情報

半導体エッチング装置は、半導体デバイスの製造において、特定の材料を選択的に除去するプロセスを行うための機械です。エッチングは、半導体製造工程の中で重要な役割を果たし、シリコンウエハ上に微細なパターンを形成することを可能にします。このプロセスは多くのステップから成り立っており、通常、フォトリソグラフィ技術に続いて行われます。
エッチングプロセスには、ドライエッチングとウェットエッチングの二つの主要な手法があります。ドライエッチングは、ガス状のエッチング剤を用いて材料を除去する方法で、特に微細パターンの形成に適しています。プラズマエッチングや反応性イオンエッチング(RIE)などが代表的な技術です。これらの技術は、高い解像度と選択性を持ち、非常に細かい構造を加工することが可能です。一方、ウェットエッチングは、液体の化学薬品を使用して材料を除去する方法です。このアプローチは、比較的簡便でコストが低いため、特定の用途において広く利用されています。

用途としては、半導体デバイスのマイクロ加工が挙げられます。具体的には、トランジスタやダイオード、集積回路の製造において、フォトレジストで形成されたパターンに基づいてエッチング工程が行われます。また、メモリーチップやプロセッサチップなど、高集積のデバイスにおいても利用されます。加えて、最近ではパワー半導体や次世代の量子デバイス、光デバイスなどの新しい技術領域でもエッチング装置が必要とされています。

エッチング装置は、非常に高い精度が求められ、微細な構造を形成するためには、装置自体の技術が進化する必要があります。現代の装置は、温度管理やガス供給、反応性制御において非常に高い精度を持っており、これにより高い生産性と良好な製品品質を実現しています。また、エッチングプロセス中の異常をリアルタイムで検知し、制御するためのセンサー技術やデータ分析技術も重要な要素です。

さらに、環境への配慮も重要な課題となっています。半導体製造プロセスでは、多くの化学薬品やガスが使用されるため、これらの取り扱いや廃棄物処理において厳格な規制があります。最近では、エコフレンドリーなエッチングストラテジーや、より安全で環境負荷の少ない材料の開発が進められています。

半導体エッチング装置は、産業界の進展とともにますます重要性を増しています。5G通信、人工知能、IoT技術など、新しい技術の登場によって、求められる性能や精度が一層厳しくなっています。これに応じて、エッチング装置の技術革新も急速に進行しており、より高度な機能を持つ装置が開発されています。将来的には、ナノテクノロジーや量子コンピュータ向けのさらなる微細加工技術が求められることが予想され、エッチング装置の役割はますます重要になるでしょう。

このように、半導体エッチング装置は、現代の電子機器の核心を支える装置であり、その進化は新たな技術の創造につながっています。これらの技術が将来的にどのように進化していくのか、今後の動向にも注目です。


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★リサーチレポート[ 半導体エッチング装置の世界市場2021-2031:機会分析・産業予測(Semiconductor Etch Equipment Market By Type (Wet etch equipment, Dry etch equipment), By Process (Conductor Etch, Dielectric Etch), By End User (Integrated device manufacturers, Foundry, Memory manufacturers): Global Opportunity Analysis and Industry Forecast, 2021-2031)]についてメールでお問い合わせはこちらでお願いします。
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