高NA EUVリソグラフィーシステムの世界市場2024

◆英語タイトル:Global High NA EUV Lithography System Market Research Report 2024

QYResearchが発行した調査報告書(QYR24CR204752)◆商品コード:QYR24CR204752
◆発行会社(リサーチ会社):QYResearch
◆発行日:2024年6月
◆ページ数:約100
◆レポート形式:英語 / PDF
◆納品方法:Eメール(受注後2-3営業日)
◆調査対象地域:グローバル
◆産業分野:機械&装置
◆販売価格オプション(消費税別)
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※上記の日本語題名はH&Iグローバルリサーチが翻訳したものです。英語版原本には日本語表記はありません。
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❖ レポートの概要 ❖

世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場は2023年にxxxxx米ドルと算出され、2024年から2030年の予測期間中にxxxxx%のCAGR(年平均成長率)を記録し、2030年にはxxxxx米ドルに達すると予測されています。
北米の高NA EUVリソグラフィーシステム市場は2024年から2030年の予測期間中にxxxxx%のCAGRで2023年のxxxxx米ドルから2030年にはxxxxx米ドルに達すると推定されます。
高NA EUVリソグラフィーシステムのアジア太平洋市場は2024年から2030年の予測期間中にxxxxx%のCAGRで2023年のxxxxx米ドルから2030年までにxxxxx米ドルに達すると推定されます。

高NA EUVリソグラフィーシステムの主なグローバルメーカーには、ASMLなどがあります。2023年には世界のトップ3メーカーが売上の約xxxxx%を占めています。

当レポートは、高NA EUVリソグラフィーシステムの世界市場を量的・質的分析の両面から包括的に紹介することで、お客様のビジネス/成長戦略の策定、市場競争状況の把握、現在の市場における自社のポジションの分析、高NA EUVリソグラフィーシステムに関する十分な情報に基づいたビジネス上の意思決定の一助となることを目的としています。

販売量と売上をベースに2023年を基準年とし2019年から2030年までの期間の高NA EUVリソグラフィーシステムの市場規模、推計、予想データを収録しています。本レポートでは、世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場を包括的に区分しています。タイプ別、用途別、プレイヤー別の製品に関する地域別市場規模も掲載しています。
市場のより詳細な理解のために、競合状況、主要競合企業のプロフィール、それぞれの市場ランクを掲載しています。また、技術動向や新製品開発についても論じています。

当レポートは、本市場における高NA EUVリソグラフィーシステムメーカー、新規参入企業、産業チェーン関連企業に対し、市場全体および企業別、タイプ別、用途別、地域別のサブセグメントにおける売上、販売量、平均価格に関する情報を提供します。

*** 市場セグメント ***

・世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場:タイプ別
0.55NA、その他

・世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場:用途別
統合デバイスメーカー(IDM)、OEM工場、その他

・世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場:掲載企業
ASML

*** 各章の概要 ***

第1章:報告書のスコープ、市場セグメント別(地域別、製品タイプ別、用途別など)のエグゼクティブサマリー、各市場セグメントの市場規模、今後の発展可能性などを紹介。市場の現状と、短期・中期・長期的にどのような進化を遂げる可能性があるのかについてハイレベルな見解を提供。
第2章:高NA EUVリソグラフィーシステムメーカーの競争環境、価格、売上、市場シェアなどの詳細分析。
第3章:地域レベル、国レベルでの高NA EUVリソグラフィーシステムの販売と収益分析。各地域と主要国の市場規模と発展可能性を定量的に分析し、世界各国の市場発展、今後の発展展望、マーケットスペース、市場規模などを収録。
第4章:様々な市場セグメントをタイプ別に分析し、各市場セグメントの市場規模と発展可能性を網羅し、お客様が様々な市場セグメントにおけるブルーオーシャン市場を見つけるのに役立つ。
第5章:お客様が異なる川下市場におけるブルーオーシャン市場を見つけるのを助けるために各市場セグメントの市場規模と発展の可能性をカバー、アプリケーション別に様々な市場セグメントの分析を提供。
第6章:主要企業のプロフィールを提供し、製品の販売量、売上高、価格、粗利益率、製品紹介など、市場の主要企業の基本的な状況を詳しく紹介。
第7章:産業の上流と下流を含む産業チェーンを分析。
第8章:市場力学、市場の最新動向、市場の推進要因と制限要因、業界のメーカーが直面する課題とリスク、業界の関連政策の分析を掲載。
第9章:レポートの要点と結論。

❖ レポートの目次 ❖

1.高NA EUVリソグラフィーシステムの市場概要
製品の定義
高NA EUVリソグラフィーシステム:タイプ別
世界の高NA EUVリソグラフィーシステムのタイプ別市場価値比較(2024-2030)
※0.55NA、その他
高NA EUVリソグラフィーシステム:用途別
世界の高NA EUVリソグラフィーシステムの用途別市場価値比較(2024-2030)
※統合デバイスメーカー(IDM)、OEM工場、その他
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場規模の推定と予測
世界の高NA EUVリソグラフィーシステムの売上:2019-2030
世界の高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量:2019-2030
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場の平均価格(2019-2030)
前提条件と限界

2.高NA EUVリソグラフィーシステム市場のメーカー別競争
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場:販売量のメーカー別市場シェア(2019-2024)
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場:売上のメーカー別市場シェア(2019-2024)
世界の高NA EUVリソグラフィーシステムのメーカー別平均価格(2019-2024)
高NA EUVリソグラフィーシステムの世界主要プレイヤー、業界ランキング、2022 VS 2023 VS 2024
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場の競争状況と動向
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場集中率
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム上位3社と5社の売上シェア
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場:企業タイプ別シェア(ティア1、ティア2、ティア3)

3.高NA EUVリソグラフィーシステム市場の地域別シナリオ
地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの市場規模:2019年VS2023年VS2030年
地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量:2019-2030
地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量:2019-2024
地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量:2025-2030
地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上:2019-2030
地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上:2019-2024
地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上:2025-2030
北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム市場概況
北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム市場規模:2019年VS2023年VS2030年
北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019-2030)
北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019-2030)
米国
カナダ
欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム市場概況
欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム市場規模:2019年VS2023年VS2030年
欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019-2030)
欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019-2030)
ドイツ
フランス
イギリス
ロシア
イタリア
アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム市場概況
アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム市場規模:2019年VS2023年VS2030年
アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019-2030)
アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019-2030)
中国
日本
韓国
インド
東南アジア
中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム市場概況
中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム市場規模:2019年VS2023年VS2030年
中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019-2030)
中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上
ブラジル
メキシコ
中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステム市場概況
中東・アフリカの地域別高NA EUVリソグラフィーシステム市場規模:2019年VS2023年VS2030年
中東・アフリカの地域別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019-2030)
中東・アフリカの地域別高NA EUVリソグラフィーシステム売上
中東
アフリカ

4.タイプ別セグメント
世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019-2030)
世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019-2024)
世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2025-2030)
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム販売量のタイプ別市場シェア(2019-2030)
世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2019-2030)
世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019-2024)
世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2025-2030)
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム売上のタイプ別市場シェア(2019-2030)
世界の高NA EUVリソグラフィーシステムのタイプ別価格(2019-2030)

5.用途別セグメント
世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019-2030)
世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019-2024)
世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2025-2030)
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム販売量の用途別市場シェア(2019-2030)
世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019-2030)
世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2019-2024)
世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2025-2030)
世界の高NA EUVリソグラフィーシステム売上の用途別市場シェア(2019-2030)
世界の高NA EUVリソグラフィーシステムの用途別価格(2019-2030)

6.主要企業のプロファイル
※掲載企業:ASML
Company A
Company Aの企業情報
Company Aの概要と事業概要
Company Aの高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量、売上、売上総利益率(2019-2024)
Company Aの製品ポートフォリオ
Company B
Company Bの会社情報
Company Bの概要と事業概要
Company Bの高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量、売上、売上総利益率(2019-2024)
Company Bの製品ポートフォリオ

7.産業チェーンと販売チャネルの分析
高NA EUVリソグラフィーシステムの産業チェーン分析
高NA EUVリソグラフィーシステムの主要原材料
高NA EUVリソグラフィーシステムの生産方式とプロセス
高NA EUVリソグラフィーシステムの販売とマーケティング
高NA EUVリソグラフィーシステムの販売チャネル
高NA EUVリソグラフィーシステムの販売業者
高NA EUVリソグラフィーシステムの需要先

8.高NA EUVリソグラフィーシステムの市場動向
高NA EUVリソグラフィーシステムの産業動向
高NA EUVリソグラフィーシステム市場の促進要因
高NA EUVリソグラフィーシステム市場の課題
高NA EUVリソグラフィーシステム市場の抑制要因

9.調査結果と結論

10.方法論とデータソース
方法論/調査アプローチ
調査プログラム/設計
市場規模の推定方法
市場分解とデータ三角法
データソース
二次情報源
一次情報源
著者リスト
免責事項

図表一覧

・高NA EUVリソグラフィーシステムの世界市場タイプ別価値比較(2024年-2030年)
・高NA EUVリソグラフィーシステムの世界市場規模比較:用途別(2024年-2030年)
・2023年の高NA EUVリソグラフィーシステムの世界市場メーカー別競争状況
・グローバル主要メーカーの高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2019年-2024年)
・グローバル主要メーカー別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2019年-2024年)
・世界のメーカー別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019年-2024年)
・世界のメーカー別高NA EUVリソグラフィーシステム売上シェア(2019年-2024年)
・高NA EUVリソグラフィーシステムの世界主要メーカーの平均価格(2019年-2024年)
・高NA EUVリソグラフィーシステムの世界主要メーカーの業界ランキング、2022年 VS 2023年 VS 2024年
・グローバル主要メーカーの市場集中率(CR5とHHI)
・企業タイプ別世界の高NA EUVリソグラフィーシステム市場(ティア1、ティア2、ティア3)
・地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの市場規模:2019年 VS 2023年 VS 2030年
・地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量(2019年-2024年)
・地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量シェア(2019年-2024年)
・地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量(2025年-2030年)
・地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量シェア(2025年-2030年)
・地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2019年-2024年)
・地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2019年-2024年)
・地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2025年-2030年)
・地域別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2025-2030年)
・北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム収益:2019年 VS 2023年 VS 2030年
・北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019年-2024年)
・北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2019年-2024年)
・北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2025年-2030年)
・北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2025-2030年)
・北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019年-2024年)
・北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上シェア(2019年-2024年)
・北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2025年-2030年)
・北米の国別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2025-2030年)
・欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム収益:2019年 VS 2023年 VS 2030年
・欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019年-2024年)
・欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2019年-2024年)
・欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2025年-2030年)
・欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2025-2030年)
・欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019年-2024年)
・欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上シェア(2019年-2024年)
・欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2025年-2030年)
・欧州の国別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2025-2030年)
・アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム収益:2019年 VS 2023年 VS 2030年
・アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019年-2024年)
・アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2019年-2024年)
・アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2025年-2030年)
・アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2025-2030年)
・アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019年-2024年)
・アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上シェア(2019年-2024年)
・アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2025年-2030年)
・アジア太平洋の国別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2025-2030年)
・中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム収益:2019年 VS 2023年 VS 2030年
・中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019年-2024年)
・中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2019年-2024年)
・中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2025年-2030年)
・中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2025-2030年)
・中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019年-2024年)
・中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上シェア(2019年-2024年)
・中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2025年-2030年)
・中南米の国別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2025-2030年)
・中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステム収益:2019年 VS 2023年 VS 2030年
・中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2019年-2024年)
・中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2019年-2024年)
・中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量(2025年-2030年)
・中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステム販売量シェア(2025-2030年)
・中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2019年-2024年)
・中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上シェア(2019年-2024年)
・中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステム売上(2025年-2030年)
・中東・アフリカの国別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2025-2030年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量(2019年-2024年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量(2025-2030年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量シェア(2019年-2024年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量シェア(2025年-2030年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2019年-2024年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2025-2030年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2019年-2024年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2025年-2030年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの価格(2019年-2024年)
・世界のタイプ別高NA EUVリソグラフィーシステムの価格(2025-2030年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量(2019年-2024年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量(2025-2030年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量シェア(2019年-2024年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの販売量シェア(2025年-2030年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2019年-2024年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上(2025-2030年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2019年-2024年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの売上シェア(2025年-2030年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの価格(2019年-2024年)
・世界の用途別高NA EUVリソグラフィーシステムの価格(2025-2030年)
・原材料の主要サプライヤーリスト
・高NA EUVリソグラフィーシステムの販売業者リスト
・高NA EUVリソグラフィーシステムの需要先リスト
・高NA EUVリソグラフィーシステムの市場動向
・高NA EUVリソグラフィーシステム市場の促進要因
・高NA EUVリソグラフィーシステム市場の課題
・高NA EUVリソグラフィーシステム市場の抑制要因
・本レポートの調査プログラム/設計
・二次情報源からの主要データ情報
・一次情報源からの主要データ情報
・本報告書の著者リスト
※参考情報

高NA EUVリソグラフィーシステム(High NA EUV Lithography System)は、半導体製造における重要な技術であり、次世代の集積回路(IC)を製造するために必要不可欠な要素です。この技術の進展は、より小型化・高性能化が進む半導体製造プロセスの必然的な要求に応えるものとなっています。

まず、高NA EUVリソグラフィーの「NA」とは、光学系における数値開口(Numerical Aperture)の略であり、レンズが集めることのできる光の量を示す指標です。高いNA値を持つリソグラフィー技術は、より細かいパターンを形成する能力を持っており、これによって微細な回路を正確に描くことが可能になります。このことは、集積回路のトランジスタのサイズを小さくし、集積度を高めるための鍵となります。

高NA EUVリソグラフィーは、その名の通り、極端紫外線(EUV)を利用したリソグラフィー技術です。EUVは波長が13.5ナノメートルという非常に短い光を使用しており、これは従来の深紫外線(DUV)リソグラフィーに比べてはるかに短い波長です。この短波長により、より微細なパターンを形成することができます。

この技術の特徴としては、まず高い解像度があります。高NAにより、微細なパターンを高精度で描くことができるため、例えば5nmプロセスやそれ以下の次世代プロセスの製造に対応できる可能性があります。また、高NAによる強い集光能力は、露光時間を短縮し、製造コストの低減に寄与します。

高NA EUVリソグラフィーシステムには、いくつかの異なる種類が存在します。その中でも、特に注目されているのは、ステッパー型とスキャナー型があります。ステッパー型は、露光するエリアを一度の照射でパターン化する方式で、高精度なパターンを形成するのに適しています。一方、スキャナー型は、ウェハ全体を数回に分けて露光する方式で、より大きなウェハに対しても適用可能です。

用途としては、主に半導体産業での集積回路の製造が挙げられます。特に、AIや5G通信、量子コンピュータなど、最新の技術が求められる応用分野において、高NA EUVリソグラフィーはその性能を最大限に発揮します。今後ますます高度な技術が求められる中で、このリソグラフィー技術は中心的な役割を果たすと考えられています。

関連技術としては、EUV光源の技術が重要な要素です。EUVは非常に高いエネルギーを必要とするため、専用の光源が必要です。最先端の技術では、プラズマを生成し、それによってEUVを発生させる方法です。これには、液体金属を用いた方法や、レーザーを使用した方式などがあります。また、リソグラフィーにおけるフォトレジストの開発も重要です。高NA EUVに対応したフォトレジストは、解像度や感度、エッチング後の残り具合など、多くの特性が求められます。

さらに、デザイン面でも高NA EUVに適した設計手法が必要です。特に、複雑なパターンを高速で投影するためには、適切な設計ルールやシミュレーション技術が求められます。このため、EDA(Electronic Design Automation)ツールの進化も支援されており、設計から製造までのプロセスが円滑に進むようになっています。

高NA EUVリソグラフィーは、次世代の半導体製造プロセスに向けた革新的な技術です。集積回路の微細化が進む中で、その重要性はますます増しており、産業界全体に大きな変革をもたらす可能性を秘めています。今後の技術開発や商業化においても、この分野の進展が期待されていることは間違いありません。


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