1 序文
2 調査範囲と方法論
2.1 調査の目的
2.2 ステークホルダー
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法
3 エグゼクティブ・サマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要産業動向
5 フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場
5.1 市場概要
5.2 市場パフォーマンス
5.3 COVID-19の影響
5.4 価格分析
5.5 フォトレジストタイプ別市場構成比
5.6 フォトレジスト付属品タイプ別市場構成比
5.7 用途別市場構成比
5.8 地域別市場構成比
5.9 市場予測
5.10 SWOT分析
5.10.1 概要
5.10.2 強み
5.10.3 弱点
5.10.4 機会
5.10.5 脅威
5.11 バリューチェーン分析
5.11.1 概要
5.11.2 研究開発
5.11.3 原材料調達
5.11.4 製造
5.11.5 マーケティング
5.11.6 流通
5.11.7 最終用途
5.12 ポーターズファイブフォース分析
5.12.1 概要
5.12.2 買い手の交渉力
5.12.3 供給者の交渉力
5.12.4 競争の程度
5.12.5 新規参入の脅威
5.12.6 代替品の脅威
6 フォトレジスト市場のタイプ別内訳
6.1 ArF液浸
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 KrF
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 ArFドライ
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
6.4 G線・I線
6.4.1 市場動向
6.4.2 市場予測
7 フォトレジスト関連部材のタイプ別市場内訳
7.1 反射防止コーティング剤
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 剥離剤
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 デベロッパー
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
7.4 その他
7.4.1 市場動向
7.4.2 市場予測
8 フォトレジストとフォトレジスト付属品市場: 用途別構成比
8.1 半導体・ICS
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場展望
8.2 LCD
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 プリント基板
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
8.4 その他
8.4.1 市場動向
8.4.2 市場予測
9 地域別市場内訳
9.1 アジア太平洋
9.1.1 市場動向
9.1.2 市場予測
9.2 北米
9.2.1 市場動向
9.2.2 市場予測
9.3 欧州
9.3.1 市場動向
9.3.2 市場予測
9.4 中東・アフリカ
9.4.1 市場動向
9.4.2 市場予測
9.5 中南米
9.5.1 市場動向
9.5.2 市場予測
10 製造プロセス
10.1 製品概要
10.2 原材料要件
10.3 製造工程
10.4 主な成功要因とリスク要因
11 競争環境
11.1 市場構造
11.2 主要プレーヤー
11.3 主要プレーヤーのプロフィール
11.3.1 東京応化工業株式会社
11.3.2 JSR株式会社
11.3.3 デュポン株式会社
11.3.4 信越化学工業(株 信越化学工業株式会社
11.3.5 富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株
11.3.6 住友化学株式会社
11.3.7 メルクアズエレクトロニクスマテリアルズ
11.3.8 Allresist GmbH
11.3.9 アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ LLC
11.3.10 マイクロケミカルGmbH
図2:フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場: 販売額(単位:億米ドル)、2018年~2023年
図3:フォトレジストの世界市場: タイプ別構成比(単位:%)、2023年
図4:フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場:タイプ別構成比(単位:%)、2023年 フォトレジスト付属品の世界市場:タイプ別構成比(%)、2023年
図5:フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場: フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場:用途別構成比(%)、2023年
図6:フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場: フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場:地域別構成比(%)、2023年
図7:フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場予測: 販売額(単位:億米ドル)、2024年~2032年
図8: フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場: SWOT分析
図9:世界のフォトレジスト&フォトレジスト付属品産業: バリューチェーン分析
図 10: フォトレジストとフォトレジスト付属品産業の世界:バリューチェーン分析 ポーターのファイブフォース分析
図11:フォトレジスト(ArF液浸)の世界市場: 販売額(単位:百万米ドル)、2018年・2023年
図12:フォトレジスト(ArF液浸)の世界市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
図13:フォトレジスト(KrF)の世界市場: 販売額(単位:百万USドル)、2018年・2023年
図14:フォトレジスト(KrF)の世界市場予測: 販売額(単位:百万USドル)、2024年~2032年
図15:フォトレジスト(ArFドライ)の世界市場: 販売額(単位:百万USドル)、2018年・2023年
図16:フォトレジスト(ArFドライ)の世界市場予測: 販売額(単位:百万USドル)、2024年~2032年
図17:フォトレジスト(g線・i線)の世界市場: 販売額(単位:百万USドル)、2018年・2023年
図18:フォトレジスト(g線・i線)の世界市場予測: 販売額(単位:百万USドル)、2024年~2032年
図19:フォトレジスト付属品(反射防止膜)の世界市場: 販売額(単位:百万USドル)、2018年・2023年
図20:フォトレジスト用補助材料(反射防止膜)の世界市場予測: 販売額(単位:百万USドル)、2024年~2032年
図21: フォトレジスト付属品(リムーバー)の世界市場: 販売額(単位:百万USドル)、2018年・2023年
図22:フォトレジスト補助材料(リムーバー)の世界市場予測: 販売額(単位:百万USドル)、2024年~2032年
図23:フォトレジスト付属品(現像剤)の世界市場: 販売額(単位:百万USドル)、2018年・2023年
図24:フォトレジスト付属品(現像剤)の世界市場予測: 販売額(単位:百万USドル)、2024年~2032年
図25: 世界:フォトレジスト付属品(その他のタイプ)市場: 販売額(単位:百万USドル)、2018年・2023年
図26: 世界:フォトレジスト補助材料(その他のタイプ)市場予測: 販売額(単位:百万USドル)、2024年~2032年
図27: 世界:フォトレジスト&フォトレジスト付属品(半導体・ICS用途)市場: 販売金額(単位:百万米ドル)、2018年・2023年
図28: 世界:フォトレジスト&フォトレジスト付属品(半導体・ICS用途)市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
図29: 世界:フォトレジスト&フォトレジスト付属品(LCD用途)市場: 販売額(単位:百万米ドル)、2018年・2023年
図30: 世界:フォトレジスト&フォトレジスト付属品(LCDの用途)市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
図31: 世界:フォトレジスト&フォトレジスト付属品(プリント基板用途)市場: 販売額(単位:百万米ドル)、2018年および2023年
図32: 世界:フォトレジスト&フォトレジスト付属品(プリント基板の用途)市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
図33: 世界:フォトレジスト&フォトレジスト付属品(その他の用途)市場: 販売額(単位:百万米ドル)、2018年および2023年
図34: 世界:フォトレジスト&フォトレジスト付属品(その他の用途)市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
図35: アジア太平洋地域: フォトレジスト&フォトレジスト付属品市場: 販売金額(単位:百万USドル)、2018年および2023年
図36: アジア太平洋地域:フォトレジスト&フォトレジスト付属品の市場予測:2018年および2023年 フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
図 37: 北米: フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場: 販売額(単位:百万米ドル)、2018年および2023年
図38: 北米:フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測:2018年および2023年 フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
図39: ヨーロッパ:フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測 フォトレジスト&フォトレジスト付属品市場: 販売額(単位:百万USドル)、2018年および2023年
図40: 欧州:フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測:2018年および2023年 フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
図41: 中東およびアフリカ: フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場: 販売額(単位:百万米ドル)、2018年および2023年
図42: 中東およびアフリカ: フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
図43: 中南米: フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測 フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場: 販売額(単位:百万米ドル)、2018年および2023年
図44: 中南米:フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測:2018年および2023年 フォトレジストとフォトレジスト付属品の市場予測: 販売額(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
表1:世界:フォトレジスト&フォトレジスト付属品市場: 主要産業ハイライト、2023年および2032年
表2:フォトレジストの世界市場予測: タイプ別内訳(単位:百万米ドル)、2024年~2032年
表3:フォトレジスト付属品の世界市場予測: フォトレジスト付属品の世界市場予測:タイプ別内訳(単位:百万米ドル)、2024-2032年
表4:フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場予測: 用途別構成比(単位:百万米ドル)、2024-2032年
表5:フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場予測: 地域別構成比(単位:百万米ドル)、2024-2032年
表6:フォトレジストとフォトレジスト付属品の世界市場: 競争構造
表7:フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場:競合構造 主要プレイヤー
❖ 掲載企業 ❖
Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd., JSR Corporation, DuPont de Nemours Inc., Shin-Etsu Chemical Co. Ltd., Fujifilm Electronics Materials Co. Ltd., Sumitomo Chemical Co. Ltd., Merck Az Electronics Materials, Allresist GmbH, Avantor Performance Materials, LLC, Microchemicals GmbH
| ※参考情報 フォトレジストとは、光に反応する材料の一つであり、主に半導体製造やナノテクノロジーの分野で使用されます。フォトレジストは、特定の波長の光に晒されることで化学的変化を引き起こします。このプロセスを通じて、基板表面に精密なパターンを作成することが可能です。フォトレジストは、一般的にポリマーから構成されており、主に2つのタイプに分類されます。ポジティブタイプとネガティブタイプがそれに該当します。 ポジティブタイプのフォトレジストは、光に照射されることで溶解性が高まり、露光された部分が溶剤で除去されます。このため、パターンを形成するのが容易で、高い解像度を持つことから、微細なトランジスタなどの製造に適しています。一方、ネガティブタイプのフォトレジストは、露光された部分が化学反応によって硬化し、未露光の部分が溶剤で除去されます。これによって逆のパターンが形成されます。用途によって、どちらのタイプが選ばれるかは異なりますが、半導体加工においては、ポジティブタイプが広く用いられています。 フォトレジストは通常、薄膜として基板上に塗布され、その後、光を使ってパターンを形成します。このプロセスには、コーティング、露光、現像、エッチングなどのステップがあります。コーティングでは、フォトレジストを均一に基板上に塗ります。次に、露光段階で紫外線や電子ビームなどを用いてフォトレジストにパターンを照射します。そして、現像工程では、露光した部分または未露光の部分を化学薬品で洗い流します。このプロセスを経て、基板上には必要なパターンが形成されます。 フォトレジストの利用目的は多岐にわたります。最も一般的なのは半導体デバイスの製造です。集積回路(IC)やMEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems)、さらには光学部品や波長板など、幅広い電子機器に必要な微細なパターンを作成するために必要不可欠です。また、フォトレジストは、太陽電池やフレキシブルディスプレイなどの新しい技術の開発にも使用されています。 フォトレジストには、多くの付属品や関連技術があります。たとえば、コーティング装置や露光装置、現像装置などがそれに該当します。コーティング装置は、スピンコーターなどが用いられ、均一なフォトレジスト膜を形成することができます。露光装置は、紫外線リソグラフィ装置や電子ビーム露光装置などがあり、パターンの精密な転写を可能にします。現像装置は、適切な溶剤を用いて露光されたフォトレジストを選択的に溶かすために使用されます。 最近では、より高精度なパターン形成が求められており、ナノリソグラフィや多層構造の開発が進んでいます。また、新しい材料や技術の進歩により、フォトレジストの性能も向上しています。例えば、極紫外線(EUV)露光技術では、より短い波長の光を使用することで、さらに細かいパターンを形成することが可能となっています。これにより、微細化が進む半導体産業において、フォトレジストの需要はますます高まっています。 フォトレジストとその付属品は、半導体やナノテクノロジーだけでなく、幅広い分野での応用が期待されており、今後もその重要性は増していくと予想されます。新しいテクノロジーの開発に伴い、フォトレジストの特性や性能向上に向けた研究も進んでおり、より多様な用途に対応できる製品の誕生が期待されています。 |
❖ 免責事項 ❖
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