フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場2023~2028:産業動向、シェア、規模、成長、機会・予測

◆英語タイトル:Photoresist and Photoresist Ancillaries Market: Global Industry Trends, Share, Size, Growth, Opportunity and Forecast 2023-2028

IMARCが発行した調査報告書(IMARC23APR076)◆商品コード:IMARC23APR076
◆発行会社(リサーチ会社):IMARC
◆発行日:2023年3月18日
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◆ページ数:143
◆レポート形式:英語 / PDF
◆納品方法:Eメール
◆調査対象地域:グローバル
◆産業分野:材料
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❖ レポートの概要 ❖

アイマーク社発行の当調査資料によると、2022年38億ドルであった世界のフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模が、予測期間中(2023年~2028年)年平均4.6%成長し、2028年には50億ドルに達すると予測されています。当書は、フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場について総合的に調査・分析されたレポートです。序論、範囲・調査手法、エグゼクティブサマリー、イントロダクション、フォトレジスト種類別(ArF 浸漬、KrF、ArFドライ、g線・i線)分析、フォトレジスト付属品種類別(反射防止膜、リムーバー、開発者、その他)分析、用途別(半導体・ICS、LCD、プリント基板、その他)分析、地域別(アジア太平洋、北米、ヨーロッパ、中東/アフリカ、中南米)分析、製造プロセス、競争状況などの項目がまとめられています。なお、当書に掲載されている企業情報には、Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.、JSR Corporation、DuPont de Nemours Inc.、Shin-Etsu Chemical Co. Ltd.、Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.、Sumitomo Chemical Co., Ltd.、Merck Az Electronics Materials、Allresist GmbH、Avantor Performance Materials, LLCなどが含まれています。
・序論
・範囲・調査手法
・エグゼクティブサマリー
・イントロダクション
・世界のフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模:フォトレジスト種類別
  - ArF浸漬フォトレジストの市場規模
 - KrFフォトレジストの市場規模
  - ArFドライフォトレジストの市場規模
  - g線・i線フォトレジストの市場規模
・世界のフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模:フォトレジスト付属品種類別
  - フォトレジスト反射防止膜の市場規模
  - フォトレジストリムーバーの市場規模
  - フォトレジスト開発者の市場規模
  - その他フォトレジスト付属品の市場規模
・世界のフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模:用途別
  - 半導体・ICSにおける市場規模
  - LCDにおける市場規模
  - プリント基板における市場規模
  - その他用途における市場規模
・世界のフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模:地域別
  - アジア太平洋のフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模
  - 北米のフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模
  - ヨーロッパのフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模
  - 中東/アフリカのフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模
  - 中南米のフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場規模
・製造プロセス
・競争状況

フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場規模は2022年に38億米ドルに達しました。今後、IMARC Groupは、2023年から2028年にかけて4.6%の成長率(CAGR)を示し、2028年までに50億米ドルに達すると予測しています。

フォトレジストは、紫外線を照射すると化学構造が変化する有機ポリマーです。フォトレジストにはポジ型とネガ型の2種類があります。ポジ型フォトレジストは紫外線を照射すると可溶性になり、ネガ型フォトレジストは紫外線を照射すると架橋して不溶性になります。フォトレジスト補助剤は、フォトレジストと共に使用される関連製品です。反射防止コーティング剤、除去剤、現像剤などに分類されます。

フォトレジスト&フォトレジスト付属品市場の主な成長要因の一つは、フラットパネルディスプレイでの使用です。これらのディスプレイは軽量、薄型でエネルギー効率が高いため、消費者に他のディスプレイよりも好まれ、市場の成長を促しています。さらに、フォトレジストは、コンピューター、ノートパソコン、音楽プレーヤー、携帯電話、サーバー、家電製品に不可欠な多層半導体製造の配線構成に使用されています。これらの製品に対する需要の増加が、フォトレジストの魅力的な市場を世界的に形成しています。さらに、ディスプレイ技術の進歩や半導体産業の成長は、今後数年間のフォトレジスト&フォトレジスト付属品の需要を押し上げます。

市場の概要
フォトレジスト市場は、製品タイプ別にKrF、g線・i線、ArFドライ、ArFイマージョンに区分されます。
製品タイプに基づき、フォトレジスト付属品市場は反射防止コーティング、リムーバー、現像剤、その他に区分されます。
用途別では、半導体・ICS、LCD、プリント基板、その他に区分されます。
地域別では、北米、アジア太平洋、欧州、中東・アフリカ、中南米に区分され、なかでも、アジア太平洋地域が最大の市場であり、世界シェアの大半を占めています。
市場の競争環境についても調査しており、主なプレーヤーとしては、Tokyo Ohka Kogyo Co.、Ltd.、JSR Corporation、DuPont de Nemours Inc.、Shin-Etsu Chemical Co. Ltd.、Fujifilm Electronics Materials Co.、Ltd.、Sumitomo Chemical Co.、Ltd.、Merck Az Electronics Materials、Allresist GmbH、Avantor Performance Materials、LLC、Microchemicals GmbHなどが挙げられます。

本レポートは、世界のフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場について、その本質的な側面をすべて網羅した深い洞察を提供します。その範囲は、市場のマクロ的な概要から、業界実績のミクロ的な詳細、最近の動向、主要な市場促進要因と課題、SWOT分析、ポーターの5つの力分析、バリューチェーン分析など多岐にわたります。本レポートは、起業家、投資家、研究者、コンサルタント、ビジネス戦略家、およびフォトレジスト&フォトレジスト付属品市場に何らかの利害関係を持つ、または何らかの形で参入を計画しているすべての人々にとって必読の書です。

本レポートで扱う主な質問
フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場はこれまでどのように推移してきたか?
フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場における主要地域は?
COVID-19がフォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場に与えた影響は?
フォトレジストの世界市場で人気のある製品タイプは?
フォトレジストの世界市場で人気のある製品タイプは?
フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場における主な用途分野は?
フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場のバリューチェーンにおける様々な段階とは?
フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場における主要な推進要因と課題は?
フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場の構造と主要プレイヤーは?
フォトレジスト&フォトレジスト付属品の世界市場における競争の程度は?
フォトレジスト&フォトレジスト付属品はどのように製造されているのか?

❖ レポートの目次 ❖

1 序文

2 調査範囲と方法論

2.1 調査の目的

2.2 ステークホルダー

2.3 データソース

2.3.1 一次情報源

2.3.2 二次情報源

2.4 市場推計

2.4.1 ボトムアップアプローチ

2.4.2 トップダウンアプローチ

2.5 予測方法論

3 エグゼクティブサマリー

4 はじめに

4.1 概要

4.2 主要な業界動向

5 世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場

5.1 市場概要

5.2 市場動向

5.3 COVID-19の影響

5.4 価格分析

5.5 フォトレジストの種類別市場内訳

5.6 フォトレジスト関連製品の種類別市場内訳

5.7 用途別市場内訳

5.8地域別市場内訳

5.9 市場予測

5.10 SWOT分析

5.10.1 概要

5.10.2 強み

5.10.3 弱み

5.10.4 機会

5.10.5 脅威

5.11 バリューチェーン分析

5.11.1 概要

5.11.2 研究開発

5.11.3 原材料調達

5.11.4 製造

5.11.5 マーケティング

5.11.6 流通

5.11.7 最終用途

5.12 ポーターのファイブフォース分析

5.12.1 概要

5.12.2 買い手の交渉力

5.12.3 サプライヤーの交渉力

5.12.4 競争の度合い

5.12.5 新規参入の脅威

5.12.6 代替品の脅威

6 フォトレジスト市場:タイプ別内訳

6.1 ArF液浸レジスト

6.1.1 市場動向

6.1.2 市場予測

6.2 KrFレジスト

6.2.1 市場動向

6.2.2 市場予測

6.3 ArFドライレジスト

6.3.1 市場動向

6.3.2 市場予測

6.4 g線およびi線レジスト

6.4.1 市場動向

6.4.2 市場予測

7 フォトレジスト関連製品市場:タイプ別内訳

7.1 反射防止コーティング

7.1.1 市場動向

7.1.2 市場予測

7.2 除去剤

7.2.1 市場トレンド

7.2.2 市場予測

7.3 現像液

7.3.1 市場トレンド

7.3.2 市場予測

7.4 その他

7.4.1 市場トレンド

7.4.2 市場予測

8 フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:用途別内訳

8.1 半導体およびICS

8.1.1 市場動向

8.1.2 市場予測

8.2 LCD

8.2.1 市場動向

8.2.2 市場予測

8.3 プリント基板

8.3.1 市場動向

8.3.2 市場予測

8.4 その他

8.4.1 市場動向

8.4.2 市場予測

9 地域別市場内訳

9.1 アジア太平洋地域

9.1.1 市場動向

9.1.2 市場予測

9.2 北米

9.2.1 市場動向

9.2.2 市場予測

9.3 欧州

9.3.1 市場動向

9.3.2 市場予測

9.4 中東・アフリカ

9.4.1 市場トレンド

9.4.2 市場予測

9.5 ラテンアメリカ

9.5.1 市場トレンド

9.5.2 市場予測

10 製造プロセス

10.1 製品概要

10.2 原材料要件

10.3 製造プロセス

10.4 成功要因とリスク要因

11 競争環境

11.1 市場構造

11.2 主要プレーヤー

11.3 主要プレーヤーの概要

11.3.1 東京応化工業株式会社

11.3.2 JSR株式会社

11.3.3 デュポン・ド・ヌムール株式会社

11.3.4 信越化学工業株式会社

11.3.5 富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社

11.3.6 住友化学株式会社

11.3.7 メルク・アズ・エレクトロニクス・マテリアルズ

11.3.8 オールレジスト GmbH

11.3.9 アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ LLC

11.3.10 マイクロケミカルズ GmbH

図1:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:主要な推進要因と課題

図2:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(10億米ドル)、2017年~2022年

図3:世界のフォトレジスト市場:タイプ別内訳(%)、2022年

図4:世界のフォトレジスト関連製品市場:タイプ別内訳(%)、2022年

図5:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:用途別内訳(%)、2022年

図6:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:地域別内訳(%)、2022年

図7:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(10億米ドル)、2023年~2028年

図8:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品業界:SWOT分析

図9:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品業界:バリューチェーン分析

図10:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品業界:ポーターのファイブフォース分析

図11:世界:フォトレジスト(ArF液浸)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図12:世界:フォトレジスト(ArF液浸)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図13:世界:フォトレジスト(KrF)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図14:世界:フォトレジスト(KrF)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図15:世界:フォトレジスト(ArFドライ)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図16:世界:フォトレジスト(ArFドライ)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図17:世界:フォトレジスト(g線およびi線)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図18:世界:フォトレジスト(g線およびi線)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図19:世界:フォトレジスト関連製品(反射防止コーティング)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図20:世界:フォトレジスト関連製品(反射防止コーティング)市場予測:売上高(百万米ドル) (百万米ドル)、2023~2028年

図21:世界:フォトレジスト関連製品(除去剤)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図22:世界:フォトレジスト関連製品(除去剤)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図23:世界:フォトレジスト関連製品(現像剤)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図24:世界:フォトレジスト関連製品(現像剤)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図25:世界:フォトレジスト関連製品(その他のタイプ)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図26:世界:フォトレジスト補助材料(その他)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図27:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料(半導体およびICS用途)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図28:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料(半導体およびICS用途)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図29:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料(LCD用途)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図30:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料(LCD用途)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図図31:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品(プリント基板用途)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図32:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品(プリント基板用途)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図33:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品(その他の用途)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図34:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品(その他の用途)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図35:アジア太平洋地域:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図36: アジア太平洋地域:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図37: 北米:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図38: 北米:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図39: 欧州:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図40: 欧州:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図41: 中東およびアフリカ:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(百万米ドル) (百万米ドル)、2017年および2022年

図42:中東およびアフリカ:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図43:ラテンアメリカ:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図44:ラテンアメリカ:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

1 Preface
2 Scope and Methodology
2.1 Objectives of the Study
2.2 Stakeholders
2.3 Data Sources
2.3.1 Primary Sources
2.3.2 Secondary Sources
2.4 Market Estimation
2.4.1 Bottom-Up Approach
2.4.2 Top-Down Approach
2.5 Forecasting Methodology
3 Executive Summary
4 Introduction
4.1 Overview
4.2 Key Industry Trends
5 Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market
5.1 Market Overview
5.2 Market Performance
5.3 Impact of COVID-19
5.4 Price Analysis
5.5 Market Breakup by Photoresist Type
5.6 Market Breakup by Photoresist Ancillaries Type
5.7 Market Breakup by Application
5.8 Market Breakup by Region
5.9 Market Forecast
5.10 SWOT Analysis
5.10.1 Overview
5.10.2 Strengths
5.10.3 Weaknesses
5.10.4 Opportunities
5.10.5 Threats
5.11 Value Chain Analysis
5.11.1 Overview
5.11.2 Research and Development
5.11.3 Raw Material Procurement
5.11.4 Manufacturing
5.11.5 Marketing
5.11.6 Distribution
5.11.7 End-Use
5.12 Porters Five Forces Analysis
5.12.1 Overview
5.12.2 Bargaining Power of Buyers
5.12.3 Bargaining Power of Suppliers
5.12.4 Degree of Competition
5.12.5 Threat of New Entrants
5.12.6 Threat of Substitutes
6 Photoresist Market Breakup by Type
6.1 ArF Immersion
6.1.1 Market Trends
6.1.2 Market Forecast
6.2 KrF
6.2.1 Market Trends
6.2.2 Market Forecast
6.3 ArF Dry
6.3.1 Market Trends
6.3.2 Market Forecast
6.4 g- and i-line
6.4.1 Market Trends
6.4.2 Market Forecast
7 Photoresist Ancillaries Market Breakup by Type
7.1 Anti-Reflective Coatings
7.1.1 Market Trends
7.1.2 Market Forecast
7.2 Remover
7.2.1 Market Trends
7.2.2 Market Forecast
7.3 Developer
7.3.1 Market Trends
7.3.2 Market Forecast
7.4 Others
7.4.1 Market Trends
7.4.2 Market Forecast
8 Photoresist and Photoresist Ancillaries Market: Breakup by Application
8.1 Semiconductors & ICS
8.1.1 Market Trends
8.1.2 Market Forecast
8.2 LCDs
8.2.1 Market Trends
8.2.2 Market Forecast
8.3 Printed Circuit Boards
8.3.1 Market Trends
8.3.2 Market Forecast
8.4 Others
8.4.1 Market Trends
8.4.2 Market Forecast
9 Market Breakup by Region
9.1 Asia Pacific
9.1.1 Market Trends
9.1.2 Market Forecast
9.2 North America
9.2.1 Market Trends
9.2.2 Market Forecast
9.3 Europe
9.3.1 Market Trends
9.3.2 Market Forecast
9.4 Middle East and Africa
9.4.1 Market Trends
9.4.2 Market Forecast
9.5 Latin America
9.5.1 Market Trends
9.5.2 Market Forecast
10 Manufacturing Process
10.1 Product Overview
10.2 Raw Material Requirements
10.3 Manufacturing Process
10.4 Key Success and Risk Factors
11 Competitive Landscape
11.1 Market Structure
11.2 Key Players
11.3 Profiles of Key Players
11.3.1 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
11.3.2 JSR Corporation
11.3.3 DuPont de Nemours Inc.
11.3.4 Shin-Etsu Chemical Co. Ltd.
11.3.5 Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.
11.3.6 Sumitomo Chemical Co., Ltd.
11.3.7 Merck Az Electronics Materials
11.3.8 Allresist GmbH
11.3.9 Avantor Performance Materials, LLC
11.3.10 Microchemicals GmbH
※参考情報

フォトレジストは、光学的な感光性物質であり、主に半導体製造や微細加工のプロセスで使用されます。フォトレジストは、基板上に薄く塗布され、光を照射することで化学的な変化を引き起こします。このプロセスを通じて、基板表面に微細なパターンを形成することが可能になります。このパターン形成プロセスは、フォトリソグラフィと呼ばれ、半導体デバイスやICチップの製造において不可欠な技術となっています。
フォトレジストには主に2つの種類があります。ひとつはネガ型フォトレジストで、光に照射された部分が硬化し、未照射部分が溶解する特性を持ちます。もうひとつはポジ型フォトレジストで、光に照射された部分が溶解し、未照射部分が残る特性を持っています。これらのフォトレジストは、その化学的特性や反応速度に応じて選択され、「スピンコーティング」、つまり、回転塗布法を用いて基板に均一に塗布されます。

フォトレジストの用途は多岐にわたりますが、特に半導体製造プロセスにおいては、トランジスタやコンデンサ、配線パターンの作成に利用されます。また、モバイルデバイス、家電製品、自動車などあらゆる電子機器に組み込まれる集積回路の製造にとっても重要な材料です。これに加えて、フォトレジストは太陽電池やバイオセンサー、MEMS(微小電気機械システム)など、さまざまな応用にも利用されています。

フォトレジストの性能には、解像度、感度、耐熱性、化学的安定性など、多くの要素が影響します。解像度は、形成できるパターンの最小サイズや精度を決定し、感度は光の照射に対する反応の速さを示します。耐熱性は、ポストプロセスにおいてフォトレジストが受ける温度に対する耐性を測る指標となります。これらの特性は、製造プロセスの効率や製品の品質に直接的な影響を与えます。

フォトレジストの付属品も重要な役割を担っています。例えば、レジスト剥離剤やデベロッパー、アニール装置などが挙げられます。レジスト剥離剤は、不要なフォトレジストを効率的に除去するために使用され、デベロッパーは露光後のフォトレジストを現像し、パターンを形成するために欠かせない化学物質です。また、アニール装置は、フォトレジストの熱処理を行い、その特性を改善するために利用されます。これらの付属品との組み合わせにより、フォトレジスト技術の効果を最大限に引き出すことができます。

フォトレジスト技術は常に進化を続けており、新たな材料やプロセスの研究が進められています。例えば、ナノテクノロジーの影響を受けた新しいタイプのフォトレジストや、化学的特性を変えることでより優れた性能を発揮する材料が開発されています。また、エコシステムに配慮した水溶性のフォトレジストも注目されています。これにより、環境に優しい製造プロセスを実現することが期待されています。

今後も、フォトレジストとその付属品は、より高度な製造技術や新しいアプリケーションを支える重要な要素として位置づけられるでしょう。そして、業界のニーズに応じて進化を続けることで、より高精度な電子機器の製造が可能になると共に、私たちの生活を豊かにする技術として貢献し続けることが期待されます。


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