1 序文
2 調査範囲と方法論
2.1 調査の目的
2.2 ステークホルダー
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推計
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法論
3 エグゼクティブサマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要な業界動向
5 世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場
5.1 市場概要
5.2 市場動向
5.3 COVID-19の影響
5.4 価格分析
5.5 フォトレジストの種類別市場内訳
5.6 フォトレジスト関連製品の種類別市場内訳
5.7 用途別市場内訳
5.8地域別市場内訳
5.9 市場予測
5.10 SWOT分析
5.10.1 概要
5.10.2 強み
5.10.3 弱み
5.10.4 機会
5.10.5 脅威
5.11 バリューチェーン分析
5.11.1 概要
5.11.2 研究開発
5.11.3 原材料調達
5.11.4 製造
5.11.5 マーケティング
5.11.6 流通
5.11.7 最終用途
5.12 ポーターのファイブフォース分析
5.12.1 概要
5.12.2 買い手の交渉力
5.12.3 サプライヤーの交渉力
5.12.4 競争の度合い
5.12.5 新規参入の脅威
5.12.6 代替品の脅威
6 フォトレジスト市場:タイプ別内訳
6.1 ArF液浸レジスト
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 KrFレジスト
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 ArFドライレジスト
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
6.4 g線およびi線レジスト
6.4.1 市場動向
6.4.2 市場予測
7 フォトレジスト関連製品市場:タイプ別内訳
7.1 反射防止コーティング
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 除去剤
7.2.1 市場トレンド
7.2.2 市場予測
7.3 現像液
7.3.1 市場トレンド
7.3.2 市場予測
7.4 その他
7.4.1 市場トレンド
7.4.2 市場予測
8 フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:用途別内訳
8.1 半導体およびICS
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 LCD
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 プリント基板
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
8.4 その他
8.4.1 市場動向
8.4.2 市場予測
9 地域別市場内訳
9.1 アジア太平洋地域
9.1.1 市場動向
9.1.2 市場予測
9.2 北米
9.2.1 市場動向
9.2.2 市場予測
9.3 欧州
9.3.1 市場動向
9.3.2 市場予測
9.4 中東・アフリカ
9.4.1 市場トレンド
9.4.2 市場予測
9.5 ラテンアメリカ
9.5.1 市場トレンド
9.5.2 市場予測
10 製造プロセス
10.1 製品概要
10.2 原材料要件
10.3 製造プロセス
10.4 成功要因とリスク要因
11 競争環境
11.1 市場構造
11.2 主要プレーヤー
11.3 主要プレーヤーの概要
11.3.1 東京応化工業株式会社
11.3.2 JSR株式会社
11.3.3 デュポン・ド・ヌムール株式会社
11.3.4 信越化学工業株式会社
11.3.5 富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社
11.3.6 住友化学株式会社
11.3.7 メルク・アズ・エレクトロニクス・マテリアルズ
11.3.8 オールレジスト GmbH
11.3.9 アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ LLC
11.3.10 マイクロケミカルズ GmbH
図1:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:主要な推進要因と課題図2:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(10億米ドル)、2017年~2022年
図3:世界のフォトレジスト市場:タイプ別内訳(%)、2022年
図4:世界のフォトレジスト関連製品市場:タイプ別内訳(%)、2022年
図5:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:用途別内訳(%)、2022年
図6:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:地域別内訳(%)、2022年
図7:世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(10億米ドル)、2023年~2028年
図8:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品業界:SWOT分析
図9:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品業界:バリューチェーン分析
図10:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品業界:ポーターのファイブフォース分析
図11:世界:フォトレジスト(ArF液浸)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図12:世界:フォトレジスト(ArF液浸)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図13:世界:フォトレジスト(KrF)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図14:世界:フォトレジスト(KrF)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図15:世界:フォトレジスト(ArFドライ)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図16:世界:フォトレジスト(ArFドライ)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図17:世界:フォトレジスト(g線およびi線)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図18:世界:フォトレジスト(g線およびi線)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図19:世界:フォトレジスト関連製品(反射防止コーティング)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図20:世界:フォトレジスト関連製品(反射防止コーティング)市場予測:売上高(百万米ドル) (百万米ドル)、2023~2028年
図21:世界:フォトレジスト関連製品(除去剤)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図22:世界:フォトレジスト関連製品(除去剤)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図23:世界:フォトレジスト関連製品(現像剤)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図24:世界:フォトレジスト関連製品(現像剤)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図25:世界:フォトレジスト関連製品(その他のタイプ)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図26:世界:フォトレジスト補助材料(その他)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図27:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料(半導体およびICS用途)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図28:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料(半導体およびICS用途)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図29:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料(LCD用途)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図30:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料(LCD用途)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図図31:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品(プリント基板用途)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図32:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品(プリント基板用途)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図33:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品(その他の用途)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図34:世界:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品(その他の用途)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図35:アジア太平洋地域:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図36: アジア太平洋地域:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図37: 北米:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図38: 北米:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図39: 欧州:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図40: 欧州:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図41: 中東およびアフリカ:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場:売上高(百万米ドル) (百万米ドル)、2017年および2022年
図42:中東およびアフリカ:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
図43:ラテンアメリカ:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年
図44:ラテンアメリカ:フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年
1 Preface
2 Scope and Methodology
2.1 Objectives of the Study
2.2 Stakeholders
2.3 Data Sources
2.3.1 Primary Sources
2.3.2 Secondary Sources
2.4 Market Estimation
2.4.1 Bottom-Up Approach
2.4.2 Top-Down Approach
2.5 Forecasting Methodology
3 Executive Summary
4 Introduction
4.1 Overview
4.2 Key Industry Trends
5 Global Photoresist and Photoresist Ancillaries Market
5.1 Market Overview
5.2 Market Performance
5.3 Impact of COVID-19
5.4 Price Analysis
5.5 Market Breakup by Photoresist Type
5.6 Market Breakup by Photoresist Ancillaries Type
5.7 Market Breakup by Application
5.8 Market Breakup by Region
5.9 Market Forecast
5.10 SWOT Analysis
5.10.1 Overview
5.10.2 Strengths
5.10.3 Weaknesses
5.10.4 Opportunities
5.10.5 Threats
5.11 Value Chain Analysis
5.11.1 Overview
5.11.2 Research and Development
5.11.3 Raw Material Procurement
5.11.4 Manufacturing
5.11.5 Marketing
5.11.6 Distribution
5.11.7 End-Use
5.12 Porters Five Forces Analysis
5.12.1 Overview
5.12.2 Bargaining Power of Buyers
5.12.3 Bargaining Power of Suppliers
5.12.4 Degree of Competition
5.12.5 Threat of New Entrants
5.12.6 Threat of Substitutes
6 Photoresist Market Breakup by Type
6.1 ArF Immersion
6.1.1 Market Trends
6.1.2 Market Forecast
6.2 KrF
6.2.1 Market Trends
6.2.2 Market Forecast
6.3 ArF Dry
6.3.1 Market Trends
6.3.2 Market Forecast
6.4 g- and i-line
6.4.1 Market Trends
6.4.2 Market Forecast
7 Photoresist Ancillaries Market Breakup by Type
7.1 Anti-Reflective Coatings
7.1.1 Market Trends
7.1.2 Market Forecast
7.2 Remover
7.2.1 Market Trends
7.2.2 Market Forecast
7.3 Developer
7.3.1 Market Trends
7.3.2 Market Forecast
7.4 Others
7.4.1 Market Trends
7.4.2 Market Forecast
8 Photoresist and Photoresist Ancillaries Market: Breakup by Application
8.1 Semiconductors & ICS
8.1.1 Market Trends
8.1.2 Market Forecast
8.2 LCDs
8.2.1 Market Trends
8.2.2 Market Forecast
8.3 Printed Circuit Boards
8.3.1 Market Trends
8.3.2 Market Forecast
8.4 Others
8.4.1 Market Trends
8.4.2 Market Forecast
9 Market Breakup by Region
9.1 Asia Pacific
9.1.1 Market Trends
9.1.2 Market Forecast
9.2 North America
9.2.1 Market Trends
9.2.2 Market Forecast
9.3 Europe
9.3.1 Market Trends
9.3.2 Market Forecast
9.4 Middle East and Africa
9.4.1 Market Trends
9.4.2 Market Forecast
9.5 Latin America
9.5.1 Market Trends
9.5.2 Market Forecast
10 Manufacturing Process
10.1 Product Overview
10.2 Raw Material Requirements
10.3 Manufacturing Process
10.4 Key Success and Risk Factors
11 Competitive Landscape
11.1 Market Structure
11.2 Key Players
11.3 Profiles of Key Players
11.3.1 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
11.3.2 JSR Corporation
11.3.3 DuPont de Nemours Inc.
11.3.4 Shin-Etsu Chemical Co. Ltd.
11.3.5 Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.
11.3.6 Sumitomo Chemical Co., Ltd.
11.3.7 Merck Az Electronics Materials
11.3.8 Allresist GmbH
11.3.9 Avantor Performance Materials, LLC
11.3.10 Microchemicals GmbH
| ※参考情報 フォトレジストは、光学的な感光性物質であり、主に半導体製造や微細加工のプロセスで使用されます。フォトレジストは、基板上に薄く塗布され、光を照射することで化学的な変化を引き起こします。このプロセスを通じて、基板表面に微細なパターンを形成することが可能になります。このパターン形成プロセスは、フォトリソグラフィと呼ばれ、半導体デバイスやICチップの製造において不可欠な技術となっています。 フォトレジストには主に2つの種類があります。ひとつはネガ型フォトレジストで、光に照射された部分が硬化し、未照射部分が溶解する特性を持ちます。もうひとつはポジ型フォトレジストで、光に照射された部分が溶解し、未照射部分が残る特性を持っています。これらのフォトレジストは、その化学的特性や反応速度に応じて選択され、「スピンコーティング」、つまり、回転塗布法を用いて基板に均一に塗布されます。 フォトレジストの用途は多岐にわたりますが、特に半導体製造プロセスにおいては、トランジスタやコンデンサ、配線パターンの作成に利用されます。また、モバイルデバイス、家電製品、自動車などあらゆる電子機器に組み込まれる集積回路の製造にとっても重要な材料です。これに加えて、フォトレジストは太陽電池やバイオセンサー、MEMS(微小電気機械システム)など、さまざまな応用にも利用されています。 フォトレジストの性能には、解像度、感度、耐熱性、化学的安定性など、多くの要素が影響します。解像度は、形成できるパターンの最小サイズや精度を決定し、感度は光の照射に対する反応の速さを示します。耐熱性は、ポストプロセスにおいてフォトレジストが受ける温度に対する耐性を測る指標となります。これらの特性は、製造プロセスの効率や製品の品質に直接的な影響を与えます。 フォトレジストの付属品も重要な役割を担っています。例えば、レジスト剥離剤やデベロッパー、アニール装置などが挙げられます。レジスト剥離剤は、不要なフォトレジストを効率的に除去するために使用され、デベロッパーは露光後のフォトレジストを現像し、パターンを形成するために欠かせない化学物質です。また、アニール装置は、フォトレジストの熱処理を行い、その特性を改善するために利用されます。これらの付属品との組み合わせにより、フォトレジスト技術の効果を最大限に引き出すことができます。 フォトレジスト技術は常に進化を続けており、新たな材料やプロセスの研究が進められています。例えば、ナノテクノロジーの影響を受けた新しいタイプのフォトレジストや、化学的特性を変えることでより優れた性能を発揮する材料が開発されています。また、エコシステムに配慮した水溶性のフォトレジストも注目されています。これにより、環境に優しい製造プロセスを実現することが期待されています。 今後も、フォトレジストとその付属品は、より高度な製造技術や新しいアプリケーションを支える重要な要素として位置づけられるでしょう。そして、業界のニーズに応じて進化を続けることで、より高精度な電子機器の製造が可能になると共に、私たちの生活を豊かにする技術として貢献し続けることが期待されます。 |
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