1 はじめに
2 調査範囲と方法論
2.1 調査目的
2.2 関係者
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法論
3 エグゼクティブサマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要な業界動向
5 世界のリソグラフィシステム市場
5.1 市場概要
5.2 市場パフォーマンス
5.3 COVID-19の影響
5.4 価格分析
5.4.1 主要価格指標
5.4.2 価格構造
5.4.3 マージン分析
5.5 技術別市場区分
5.6 用途別市場区分
5.7 地域別市場分析
5.8 市場予測
5.9 SWOT分析
5.9.1 概要
5.9.2 強み
5.9.3 弱み
5.9.4 機会
5.9.5 脅威
5.10 バリューチェーン分析
5.10.1 概要
5.10.2 研究開発
5.10.3 原材料調達
5.10.4 製造
5.10.5 マーケティング
5.10.6 流通
5.10.7 最終用途
5.11 ポーターの5つの力分析
5.11.1 概要
5.11.2 買い手の交渉力
5.11.3 供給者の交渉力
5.11.4 競争の度合い
5.11.5 新規参入の脅威
5.11.6 代替品の脅威
6 技術別市場区分
6.1 ArF液浸
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 KrF
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 i-line
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
6.4 ArFドライ
6.4.1 市場動向
6.4.2 市場予測
6.5 EUV
6.5.1 市場動向
6.5.2 市場予測
7 用途別市場分析
7.1 ファウンドリ
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 メモリ
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 集積デバイス
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
8 地域別市場分析
8.1 アジア太平洋地域
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 北米
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 欧州
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
8.4 中東・アフリカ地域
8.4.1 市場動向
8.4.2 市場予測
8.5 ラテンアメリカ地域
8.5.1 市場動向
8.5.2 市場予測
9 リソグラフィシステム製造プロセス
9.1 製品概要
9.2 原材料要件
9.3 製造プロセス
9.4 主要成功要因とリスク要因
10 競争環境
10.1 市場構造
10.2 主要プレイヤー
10.3 主要プレイヤーのプロファイル
10.3.1 ASMLホールディング
10.3.2 キヤノン
10.3.3 ニコン
10.3.4 ヌフレア・テクノロジー社
10.3.5 ヴィーコ・インスツルメンツ
10.3.6 SUSSマイクロテック
10.3.7 EVグループ
図2：世界：リソグラフィシステム市場：売上高（10億米ドル）、2017-2022年
図3：世界：リソグラフィシステム市場：技術別内訳（％）、2022年
図4：世界：リソグラフィシステム市場：用途別内訳（％）、2022年
図5：世界：リソグラフィシステム市場：地域別内訳（％）、2022年
図6：グローバル：リソグラフィシステム市場予測：売上高（10億米ドル）、2023-2028年
図7：リソグラフィシステム市場：価格構造
図8：グローバル：リソグラフィシステム産業：SWOT分析
図9：グローバル：リソグラフィシステム産業：バリューチェーン分析
図10：グローバル：リソグラフィシステム産業：ポーターの5つの力分析
図11：グローバル：リソグラフィシステム（ArF液浸）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図12：グローバル：リソグラフィシステム（ArF液浸）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図13：グローバル：リソグラフィシステム（KrF）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図14：世界：リソグラフィシステム（KrF）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図15：世界：リソグラフィシステム（i-line）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図16：世界：リソグラフィシステム（i線）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図17：世界：リソグラフィシステム（ArFドライ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図18：世界：リソグラフィシステム（ArFドライ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図19：世界：リソグラフィシステム（EUV）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図20：世界：リソグラフィシステム（EUV）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図21：世界：リソグラフィシステム（ファウンドリ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図22：世界：リソグラフィシステム（ファウンドリ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図23：世界：リソグラフィシステム（メモリ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図24：世界：リソグラフィシステム（メモリ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図25：世界：リソグラフィシステム（集積デバイス）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図26：世界：リソグラフィシステム（集積デバイス）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図27：アジア太平洋：リソグラフィシステム市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図28：アジア太平洋地域：リソグラフィシステム市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図29：北米：リソグラフィシステム市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図30：北米：リソグラフィシステム市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図31：欧州：リソグラフィシステム市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図32：欧州：リソグラフィシステム市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図33：中東・アフリカ：リソグラフィシステム市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図34：中東・アフリカ：リソグラフィシステム市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図35：ラテンアメリカ：リソグラフィシステム市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図36：ラテンアメリカ：リソグラフィシステム市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図37：リソグラフィシステム製造：詳細プロセスフロー
1 Preface
2 Scope and Methodology
2.1 Objectives of the Study
2.2 Stakeholders
2.3 Data Sources
2.3.1 Primary Sources
2.3.2 Secondary Sources
2.4 Market Estimation
2.4.1 Bottom-Up Approach
2.4.2 Top-Down Approach
2.5 Forecasting Methodology
3 Executive Summary
4 Introduction
4.1 Overview
4.2 Key Industry Trends
5 Global Lithography Systems Market
5.1 Market Overview
5.2 Market Performance
5.3 Impact of COVID-19
5.4 Price Analysis
5.4.1 Key Price Indicators
5.4.2 Price Structure
5.4.3 Margin Analysis
5.5 Market Breakup by Technology
5.6 Market Breakup by Application
5.7 Market Breakup by Region
5.8 Market Forecast
5.9 SWOT Analysis
5.9.1 Overview
5.9.2 Strengths
5.9.3 Weaknesses
5.9.4 Opportunities
5.9.5 Threats
5.10 Value Chain Analysis
5.10.1 Overview
5.10.2 Research and Development
5.10.3 Raw Material Procurement
5.10.4 Manufacturing
5.10.5 Marketing
5.10.6 Distribution
5.10.7 End-Use
5.11 Porters Five Forces Analysis
5.11.1 Overview
5.11.2 Bargaining Power of Buyers
5.11.3 Bargaining Power of Suppliers
5.11.4 Degree of Competition
5.11.5 Threat of New Entrants
5.11.6 Threat of Substitutes
6 Market Breakup by Technology
6.1 ArF Immersion
6.1.1 Market Trends
6.1.2 Market Forecast
6.2 KrF
6.2.1 Market Trends
6.2.2 Market Forecast
6.3 i-line
6.3.1 Market Trends
6.3.2 Market Forecast
6.4 ArF Dry
6.4.1 Market Trends
6.4.2 Market Forecast
6.5 EUV
6.5.1 Market Trends
6.5.2 Market Forecast
7 Market Breakup by Application
7.1 Foundry
7.1.1 Market Trends
7.1.2 Market Forecast
7.2 Memory
7.2.1 Market Trends
7.2.2 Market Forecast
7.3 Integrated Device
7.3.1 Market Trends
7.3.2 Market Forecast
8 Market Breakup by Region
8.1 Asia Pacific
8.1.1 Market Trends
8.1.2 Market Forecast
8.2 North America
8.2.1 Market Trends
8.2.2 Market Forecast
8.3 Europe
8.3.1 Market Trends
8.3.2 Market Forecast
8.4 Middle East and Africa
8.4.1 Market Trends
8.4.2 Market Forecast
8.5 Latin America
8.5.1 Market Trends
8.5.2 Market Forecast
9 Lithography Systems Manufacturing Process
9.1 Product Overview
9.2 Raw Material Requirements
9.3 Manufacturing Process
9.4 Key Success and Risk Factors
10 Competitive Landscape
10.1 Market Structure
10.2 Key Players
10.3 Profiles of Key Players
10.3.1 ASML Holding
10.3.2 Canon
10.3.3 Nikon
10.3.4 Nuflare Technology, Inc.
10.3.5 Veeco Instruments
10.3.6 SUSS MicroTec
10.3.7 Ev Group
| ※参考情報 リソグラフィ装置は、半導体製造プロセスや微細加工において重要な役割を果たす設備です。この装置は、光を用いて感光性材料にパターンを転写する技術を利用します。その基本的な概念は、光を使用して特定のパターンを形成し、それを基板上に転写することです。そのため、リソグラフィは微細な構造を作り上げるための不可欠なプロセスとなっています。 リソグラフィ装置には主に数種類の技術があります。最も一般的なのは、フォトリソグラフィです。これは、紫外線（UV）を使い、フォトレジストと呼ばれる感光性材料を塗布したウェハーにパターンを露光する方法です。露光された部分は化学的に反応して、後にエッチング工程で取り除かれるか、残るかが決まります。また、逐次高解像度を求められる現場では、極紫外線リソグラフィ（EUV）技術も導入されています。EUVリソグラフィは、波長が短いため、より微細なパターンを形成することが可能です。 次に、電子ビームリソグラフィ（EBL）についても触れておきます。EBLは、電子ビームを用いて高精度なパターンを作成する方法で、非常に高い解像度が求められる用途で使用されますが、スループット（生産性）が低いため、主にプロトタイピングや特殊なデバイスの製造に利用されます。 リソグラフィ装置の用途は多岐にわたりますが、半導体デバイスの製造が最も代表的なものです。現代のスマートフォン、コンピュータ、家電製品などには、多くの半導体素子が含まれており、そのほとんどがリソグラフィによって製造されています。また、MEMS（微小電気機械システム）、光学デバイス、ナノテクノロジーの分野でもリソグラフィ技術が利用されています。さらに、最近では有機エレクトロニクスや次世代の太陽電池の製造にも応用されるようになっています。 関連技術としては、エッチング技術や薄膜形成技術が挙げられます。リソグラフィで形成されたパターンを基に、エッチングによって不要な材料を除去することで目的の構造を作り出します。また、薄膜形成では、特定の材料を均一に基板上に堆積させる技術が必要です。これらの技術は、リソグラフィ技術と密接に関連しており、全体の製造プロセスの効率を高める要素となります。 リソグラフィ装置は進化を続けており、より高解像度で高生産性の装置が求められています。特に、ナノテクノロジーの進展により、さらなる微細化が進む中でリソグラフィ技術の重要性は増しています。今後も、次世代のリソグラフィ技術が登場し、さらなる革新をもたらすことが期待されています。特に、光源の新しい技術や新材料の開発は、リソグラフィの市場に新たな可能性を提供することになるでしょう。 このように、リソグラフィ装置は高精度な微細加工を実現するための基盤を提供しており、その進化は半導体産業や関連分野において今後も重要な局面を迎えることが予想されます。リソグラフィ技術の理解とその活用方法の革新は、未来のテクノロジーの発展に大きな影響を与えるでしょう。 |
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