世界の原子層堆積装置市場レポート:製品別(金属ALD、酸化アルミニウムALD、プラズマ強化ALD、触媒ALD、その他)、用途別(半導体、太陽電池デバイス、電子機器、医療機器、その他)、地域別 2025-2033

◆英語タイトル:Global Atomic Layer Deposition Equipment Market Report : Product (Metal ALD, Aluminum Oxide ALD, Plasma Enhanced ALD, Catalytic ALD, and Others), Application (Semiconductors, Solar Devices, Electronics, Medical Equipment, and Others), and Region 2025-2033

IMARCが発行した調査報告書(IMA25SM1039)◆商品コード:IMA25SM1039
◆発行会社(リサーチ会社):IMARC
◆発行日:2025年4月
◆ページ数:142
◆レポート形式:英語 / PDF
◆納品方法:Eメール
◆調査対象地域:グローバル
◆産業分野:電子・半導体
◆販売価格オプション(消費税別)
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※上記の日本語題名はH&Iグローバルリサーチが翻訳したものです。英語版原本には日本語表記はありません。
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❖ レポートの概要 ❖

世界の原子層堆積装置市場規模は2024年に75億米ドルに達した。今後、IMARC Groupは2033年までに市場が242億米ドルに達し、2025年から2033年にかけて年平均成長率(CAGR)13.92%で成長すると予測している。

原子層堆積(ALD)とは、交互に供給される前駆体に曝露された後、基板上に超薄膜を堆積させるために用いられる気相プロセスを指す。一般的に使用される装置には、シングルウェーハ、バッチ、プラズマ、大型基板用ALDリアクター、薄膜エレクトロルミネッセンス(TFEL)ディスプレイ、その他の電子部品などがある。これらの装置は、厚さの制御や基板の抵抗、導電性、強度などの様々な特性の改善・調整を通じて均一性を確保するのに役立ちます。こうした特性から、半導体、電子機器、光学デバイス、燃料電池、熱電材料などに使用されています。現在、原子層堆積装置は、金属、プラズマ強化、アルミナ、触媒など、様々なタイプが市販されています。

原子層堆積装置市場の動向:
機能性の向上と高精度化を実現する柔軟なツールへの需要増加に伴い、様々な研究開発(R&D)施設、医療、太陽電池分野でALD装置が広く採用されていることが、市場の成長を主に牽引している。これに伴い、データストレージ、小型電子部品、表示装置など多様な製品を堆積する電子材料における微細化、半導体、電力管理システムへの需要増加が市場成長をさらに促進している。さらに、集積回路(IC)、チップ、光スイッチ、センサー、コンピュータなどのマイクロ電気機械システム(MEMS)製品の製造における原子層堆積装置の活用がこれを後押ししている。これに伴い、柔軟な電子機器向けの空間ALDや、複雑な3Dナノ構造の均一性と適合性を確保するための3Dプリント反応装置といった画期的な技術革新が導入され、さらなる成長要因となっている。さらに、埋め込み型デバイス、スマートウォッチ、スマートフォン、医療機器の普及拡大に伴う固体薄膜電池への需要高まりが市場成長に寄与している。これに加え、主要企業間におけるプラズマ強化ALD導入に向けた戦略的提携が市場の明るい見通しを創出している。

主要市場セグメンテーション:
IMARC Groupは、グローバル原子層堆積装置市場レポートの各サブセグメントにおける主要トレンド分析を提供するとともに、2025年から2033年までのグローバル、地域、国レベルでの予測を提示しています。本レポートでは、製品と用途に基づいて市場を分類しています。

製品別内訳:

• 金属ALD
• 酸化アルミニウムALD
• プラズマ増幅ALD
• 触媒ALD
• その他

用途別内訳:

• 半導体
• 太陽電池デバイス
• 電子機器
• 医療機器
• その他

地域別内訳:

• 北米
• アメリカ合衆国
• カナダ
• アジア太平洋
• 中国
• 日本
• インド
• 韓国
• オーストラリア
• インドネシア
• その他
• ヨーロッパ
• ドイツ
• フランス
• イギリス
• イタリア
• スペイン
• ロシア
• その他
• ラテンアメリカ
• ブラジル
• メキシコ
• その他
• 中東・アフリカ

競争環境:
業界の競争環境についても調査が行われ、主要プレイヤーのプロファイルとして、アラディアンスLLC、ASMインターナショナル、ベネックOy、CVD機器株式会社、フォージナノ社、カート・J・レスカー社、ラムリサーチ社、オックスフォード・インスツルメンツ社、ピコサンOy(アプライド・マテリアルズ社)、ゼンテック・インスツルメンツ社、ヴィーコ・インスツルメンツ社、ウォニックIPS株式会社、東京エレクトロン株式会社が挙げられる。

本レポートで回答する主要な質問
1. 2024年の世界原子層堆積装置市場の規模は?
2. 2025年から2033年にかけて、世界の原子層堆積装置市場はどの程度の成長率が見込まれるか?
3. COVID-19は世界の原子層堆積装置市場にどのような影響を与えたか?
4. 世界の原子層堆積装置市場を牽引する主な要因は何か?
5. 製品別に見た世界原子層堆積装置市場の内訳は?
6. 用途別のグローバル原子層堆積装置市場の構成は?
7. 世界の原子層堆積装置市場における主要地域はどこですか?
8. 世界の原子層堆積装置市場における主要プレイヤー/企業は?
8. 世界の原子層堆積装置市場における主要なプレーヤー/企業は誰ですか?

❖ レポートの目次 ❖

1 序文
2 範囲と方法論
2.1 研究の目的
2.2 関係者
2.3 データソース
2.3.1 一次資料
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法論
3 エグゼクティブサマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要な業界動向
5 グローバル原子層堆積装置市場
5.1 市場概要
5.2 市場実績
5.3 COVID-19の影響
5.4 市場予測
6 製品別市場分析
6.1 金属ALD
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 酸化アルミニウムALD
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 プラズマ強化ALD
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
6.4 触媒ALD
6.4.1 市場動向
6.4.2 市場予測
6.5 その他
6.5.1 市場動向
6.5.2 市場予測
7 用途別市場分析
7.1 半導体
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 太陽電池デバイス
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 電子機器
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
7.4 医療機器
7.4.1 市場動向
7.4.2 市場予測
7.5 その他
7.5.1 市場動向
7.5.2 市場予測
8 地域別市場分析
8.1 北米
8.1.1 アメリカ合衆国
8.1.1.1 市場動向
8.1.1.2 市場予測
8.1.2 カナダ
8.1.2.1 市場動向
8.1.2.2 市場予測
8.2 アジア太平洋地域
8.2.1 中国
8.2.1.1 市場動向
8.2.1.2 市場予測
8.2.2 日本
8.2.2.1 市場動向
8.2.2.2 市場予測
8.2.3 インド
8.2.3.1 市場動向
8.2.3.2 市場予測
8.2.4 韓国
8.2.4.1 市場動向
8.2.4.2 市場予測
8.2.5 オーストラリア
8.2.5.1 市場動向
8.2.5.2 市場予測
8.2.6 インドネシア
8.2.6.1 市場動向
8.2.6.2 市場予測
8.2.7 その他
8.2.7.1 市場動向
8.2.7.2 市場予測
8.3 ヨーロッパ
8.3.1 ドイツ
8.3.1.1 市場動向
8.3.1.2 市場予測
8.3.2 フランス
8.3.2.1 市場動向
8.3.2.2 市場予測
8.3.3 イギリス
8.3.3.1 市場動向
8.3.3.2 市場予測
8.3.4 イタリア
8.3.4.1 市場動向
8.3.4.2 市場予測
8.3.5 スペイン
8.3.5.1 市場動向
8.3.5.2 市場予測
8.3.6 ロシア
8.3.6.1 市場動向
8.3.6.2 市場予測
8.3.7 その他
8.3.7.1 市場動向
8.3.7.2 市場予測
8.4 ラテンアメリカ
8.4.1 ブラジル
8.4.1.1 市場動向
8.4.1.2 市場予測
8.4.2 メキシコ
8.4.2.1 市場動向
8.4.2.2 市場予測
8.4.3 その他
8.4.3.1 市場動向
8.4.3.2 市場予測
8.5 中東およびアフリカ
8.5.1 市場動向
8.5.2 国別市場分析
8.5.3 市場予測
9 SWOT分析
9.1 概要
9.2 強み
9.3 弱み
9.4 機会
9.5 脅威
10 バリューチェーン分析
11 ポーターの5つの力分析
11.1 概要
11.2 購買者の交渉力
11.3 供給者の交渉力
11.4 競争の激しさ
11.5 新規参入の脅威
11.6 代替品の脅威
12 価格分析
13 競争環境
13.1 市場構造
13.2 主要プレイヤー
13.3 主要プレイヤーのプロファイル
13.3.1 アラディアンス株式会社
13.3.1.1 会社概要
13.3.1.2 製品ポートフォリオ
13.3.2 ASMインターナショナル
13.3.2.1 会社概要
13.3.2.2 製品ポートフォリオ
13.3.2.3 財務情報
13.3.3 Beneq Oy
13.3.3.1 会社概要
13.3.3.2 製品ポートフォリオ
13.3.4 CVD Equipment Corporation
13.3.4.1 会社概要
13.3.4.2 製品ポートフォリオ
13.3.4.3 財務情報
13.3.5 Forge Nano Inc.
13.3.5.1 会社概要
13.3.5.2 製品ポートフォリオ
13.3.6 Kurt J. Lesker Company
13.3.6.1 会社概要
13.3.6.2 製品ポートフォリオ
13.3.7 ラム・リサーチ社
13.3.7.1 会社概要
13.3.7.2 製品ポートフォリオ
13.3.7.3 財務情報
13.3.7.4 SWOT 分析
13.3.8 オックスフォード・インスツルメンツ社
13.3.8.1 会社概要
13.3.8.2 製品ポートフォリオ
13.3.8.3 財務
13.3.8.4 SWOT分析
13.3.9 Picosun Oy (Applied Materials Inc.)
13.3.9.1 会社概要
13.3.9.2 製品ポートフォリオ
13.3.10 SENTECH Instruments GmbH
13.3.10.1 会社概要
13.3.10.2 製品ポートフォリオ
13.3.11 Veeco Instruments Inc.
13.3.11.1 会社概要
13.3.11.2 製品ポートフォリオ
13.3.11.3 財務情報
13.3.12 Wonik IPS Co.Ltd.
13.3.12.1 会社概要
13.3.12.2 製品ポートフォリオ
13.3.12.3 財務情報
13.3.13 東京エレクトロン株式会社
13.3.13.1 会社概要
13.3.13.2 製品ポートフォリオ
13.3.13.3 財務
13.3.13.4 SWOT 分析

表1:グローバル:原子層堆積装置市場:主要産業ハイライト、2024年および2033年
表2:グローバル:原子層堆積装置市場予測:製品別内訳(百万米ドル)、2025-2033年
表3:グローバル:原子層堆積装置市場予測:用途別内訳(百万米ドル)、2025-2033年
表4:グローバル:原子層堆積装置市場予測:地域別内訳(百万米ドル)、2025-2033年
表5:グローバル:原子層堆積装置市場:競争構造
表6:グローバル:原子層堆積装置市場:主要企業

1 Preface
2 Scope and Methodology
2.1 Objectives of the Study
2.2 Stakeholders
2.3 Data Sources
2.3.1 Primary Sources
2.3.2 Secondary Sources
2.4 Market Estimation
2.4.1 Bottom-Up Approach
2.4.2 Top-Down Approach
2.5 Forecasting Methodology
3 Executive Summary
4 Introduction
4.1 Overview
4.2 Key Industry Trends
5 Global Atomic Layer Deposition Equipment Market
5.1 Market Overview
5.2 Market Performance
5.3 Impact of COVID-19
5.4 Market Forecast
6 Market Breakup by Product
6.1 Metal ALD
6.1.1 Market Trends
6.1.2 Market Forecast
6.2 Aluminum Oxide ALD
6.2.1 Market Trends
6.2.2 Market Forecast
6.3 Plasma Enhanced ALD
6.3.1 Market Trends
6.3.2 Market Forecast
6.4 Catalytic ALD
6.4.1 Market Trends
6.4.2 Market Forecast
6.5 Others
6.5.1 Market Trends
6.5.2 Market Forecast
7 Market Breakup by Application
7.1 Semiconductors
7.1.1 Market Trends
7.1.2 Market Forecast
7.2 Solar Devices
7.2.1 Market Trends
7.2.2 Market Forecast
7.3 Electronics
7.3.1 Market Trends
7.3.2 Market Forecast
7.4 Medical Equipment
7.4.1 Market Trends
7.4.2 Market Forecast
7.5 Others
7.5.1 Market Trends
7.5.2 Market Forecast
8 Market Breakup by Region
8.1 North America
8.1.1 United States
8.1.1.1 Market Trends
8.1.1.2 Market Forecast
8.1.2 Canada
8.1.2.1 Market Trends
8.1.2.2 Market Forecast
8.2 Asia-Pacific
8.2.1 China
8.2.1.1 Market Trends
8.2.1.2 Market Forecast
8.2.2 Japan
8.2.2.1 Market Trends
8.2.2.2 Market Forecast
8.2.3 India
8.2.3.1 Market Trends
8.2.3.2 Market Forecast
8.2.4 South Korea
8.2.4.1 Market Trends
8.2.4.2 Market Forecast
8.2.5 Australia
8.2.5.1 Market Trends
8.2.5.2 Market Forecast
8.2.6 Indonesia
8.2.6.1 Market Trends
8.2.6.2 Market Forecast
8.2.7 Others
8.2.7.1 Market Trends
8.2.7.2 Market Forecast
8.3 Europe
8.3.1 Germany
8.3.1.1 Market Trends
8.3.1.2 Market Forecast
8.3.2 France
8.3.2.1 Market Trends
8.3.2.2 Market Forecast
8.3.3 United Kingdom
8.3.3.1 Market Trends
8.3.3.2 Market Forecast
8.3.4 Italy
8.3.4.1 Market Trends
8.3.4.2 Market Forecast
8.3.5 Spain
8.3.5.1 Market Trends
8.3.5.2 Market Forecast
8.3.6 Russia
8.3.6.1 Market Trends
8.3.6.2 Market Forecast
8.3.7 Others
8.3.7.1 Market Trends
8.3.7.2 Market Forecast
8.4 Latin America
8.4.1 Brazil
8.4.1.1 Market Trends
8.4.1.2 Market Forecast
8.4.2 Mexico
8.4.2.1 Market Trends
8.4.2.2 Market Forecast
8.4.3 Others
8.4.3.1 Market Trends
8.4.3.2 Market Forecast
8.5 Middle East and Africa
8.5.1 Market Trends
8.5.2 Market Breakup by Country
8.5.3 Market Forecast
9 SWOT Analysis
9.1 Overview
9.2 Strengths
9.3 Weaknesses
9.4 Opportunities
9.5 Threats
10 Value Chain Analysis
11 Porters Five Forces Analysis
11.1 Overview
11.2 Bargaining Power of Buyers
11.3 Bargaining Power of Suppliers
11.4 Degree of Competition
11.5 Threat of New Entrants
11.6 Threat of Substitutes
12 Price Analysis
13 Competitive Landscape
13.1 Market Structure
13.2 Key Players
13.3 Profiles of Key Players
13.3.1 Arradiance LLC
13.3.1.1 Company Overview
13.3.1.2 Product Portfolio
13.3.2 ASM International
13.3.2.1 Company Overview
13.3.2.2 Product Portfolio
13.3.2.3 Financials
13.3.3 Beneq Oy
13.3.3.1 Company Overview
13.3.3.2 Product Portfolio
13.3.4 CVD Equipment Corporation
13.3.4.1 Company Overview
13.3.4.2 Product Portfolio
13.3.4.3 Financials
13.3.5 Forge Nano Inc.
13.3.5.1 Company Overview
13.3.5.2 Product Portfolio
13.3.6 Kurt J. Lesker Company
13.3.6.1 Company Overview
13.3.6.2 Product Portfolio
13.3.7 Lam Research Corporation
13.3.7.1 Company Overview
13.3.7.2 Product Portfolio
13.3.7.3 Financials
13.3.7.4 SWOT Analysis
13.3.8 Oxford Instruments plc
13.3.8.1 Company Overview
13.3.8.2 Product Portfolio
13.3.8.3 Financials
13.3.8.4 SWOT Analysis
13.3.9 Picosun Oy (Applied Materials Inc.)
13.3.9.1 Company Overview
13.3.9.2 Product Portfolio
13.3.10 SENTECH Instruments GmbH
13.3.10.1 Company Overview
13.3.10.2 Product Portfolio
13.3.11 Veeco Instruments Inc.
13.3.11.1 Company Overview
13.3.11.2 Product Portfolio
13.3.11.3 Financials
13.3.12 Wonik IPS Co. Ltd.
13.3.12.1 Company Overview
13.3.12.2 Product Portfolio
13.3.12.3 Financials
13.3.13 Tokyo Electron Limited
13.3.13.1 Company Overview
13.3.13.2 Product Portfolio
13.3.13.3 Financials
13.3.13.4 SWOT Analysis

※参考情報

原子層堆積装置(Atomic Layer Deposition Equipment)は、主に薄膜の堆積技術の一つであり、非常に薄い層を原子単位で制御しながら形成することができる装置です。この技術は、エレクトロニクスや材料科学の分野で非常に重要な役割を果たしており、半導体デバイスや光学機器、センサ技術など様々な応用があります。
原子層堆積(ALD)は、材料を数オングストローム(1オングストロームは10^-10メートル)という非常に薄い層で成長させる手法です。ALDは通常、化学気相成長(CVD)に関連していますが、異なる点は、ALDが自己制御された単層堆積を行う点にあります。これにより、均一で薄い膜が得られるほか、面の凹凸に対する優れた平坦性も実現できます。この特性は、特にナノスケールのデバイスにおいて非常に重要です。

ALDプロセスの基本的なメカニズムは、多段階の化学反応から成り立っています。まず、基板の表面に特定の前駆体ガス(原料ガス)が導入され、表面に吸着します。この時、ガスは化学反応を介して基板と結合し、自己完結的な単分子層を形成します。そして、残った未反応のガスが除去され、次に別の前駆体ガスが導入され、この反応が繰り返されることで、原子層が順次堆積していきます。このプロセスは、自動的かつ非常に精密に制御されているため、膜の厚さを正確に制御することが可能です。

ALDの利点は多岐にわたります。第一に、不均一な表面や複雑な形状を持つ基板でも均一な膜を堆積できる点です。従来の薄膜成長技術では、特に高アスペクト比を持つ微細構造において膜厚の均一性が課題となることが多いですが、ALDではその問題が大幅に改善されます。第二に、ALDプロセスでは、膜の化学組成や物理的特性を細かく調整できる点が挙げられます。これにより、特定の性能が求められる応用において最適化が行いやすくなります。

さらに、ALDは環境への影響が少ないことも大きなメリットといえます。多くの場合、低温でのプロセスが可能なため、熱に感受性がある素材への応用が容易です。また、ALDによって得られる膜の密度は非常に高く、内部に含まれる欠陥や不純物が少なく、耐久性や信頼性が向上します。

原子層堆積装置は、これらのプロセスを実現するための専用機器で構成されています。一般的には、複数の反応チャンバーや前駆体供給システム、真空システム、温度制御装置などが組み合わさっており、これにより高度な制御が可能となっています。装置内では、反応が進むたびに真空状態が維持され、異なるガスが選択的に導入されることで、精密な薄膜堆積が実現されます。

用途としては、半導体産業でのトランジスタやキャパシタ、絶縁層、さらには透明導電膜の形成などが代表的です。また、太陽光発電のパネルや、自動車のセンサーブラックなど、新たな材料開発においてもALDは活用されています。さらに、医療機器やバイオセンサなどの分野においても、その特性を生かした新しい材料の開発が進められています。

このように、原子層堆積装置は現代の材料科学やエレクトロニクスにおいて非常に重要な技術であり、今後もさらなる発展が期待されています。多様な応用と持続可能な素材開発に貢献するため、ALD技術はますます注目されることでしょう。そのため、関連する研究や技術の進化は、業界全体にポジティブな影響を与えると考えられています。


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