1 はじめに
2 調査範囲と方法論
2.1 調査目的
2.2 関係者
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法論
3 エグゼクティブサマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要な業界動向
5 世界のフォトリソグラフィ装置市場
5.1 市場概要
5.2 市場実績
5.3 COVID-19の影響
5.4 市場予測
6 プロセス別市場分析
6.1 紫外線（UV）
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 深紫外線（DUV）
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 極端紫外線（EUV）
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
7 波長別市場分析
7.1 70 nm–1 nm
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 270 nm–170 nm
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 370 nm–270 nm
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
8 デバイス波長別市場分析
8.1 レーザー生成プラズマ
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 エキシマレーザー
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 水銀ランプ
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
9 用途別市場分析
9.1 前工程
9.1.1 市場動向
9.1.2 市場予測
9.2 バックエンド
9.2.1 市場動向
9.2.2 市場予測
10 最終用途別市場分析
10.1 IDM
10.1.1 市場動向
10.1.2 市場予測
10.2 ファウンドリ
10.2.1 市場動向
10.2.2 市場予測
11 地域別市場分析
11.1 北米
11.1.1 アメリカ合衆国
11.1.1.1 市場動向
11.1.1.2 市場予測
11.1.2 カナダ
11.1.2.1 市場動向
11.1.2.2 市場予測
11.2 アジア太平洋地域
11.2.1 中国
11.2.1.1 市場動向
11.2.1.2 市場予測
11.2.2 日本
11.2.2.1 市場動向
11.2.2.2 市場予測
11.2.3 インド
11.2.3.1 市場動向
11.2.3.2 市場予測
11.2.4 韓国
11.2.4.1 市場動向
11.2.4.2 市場予測
11.2.5 オーストラリア
11.2.5.1 市場動向
11.2.5.2 市場予測
11.2.6 インドネシア
11.2.6.1 市場動向
11.2.6.2 市場予測
11.2.7 その他
11.2.7.1 市場動向
11.2.7.2 市場予測
11.3 ヨーロッパ
11.3.1 ドイツ
11.3.1.1 市場動向
11.3.1.2 市場予測
11.3.2 フランス
11.3.2.1 市場動向
11.3.2.2 市場予測
11.3.3 イギリス
11.3.3.1 市場動向
11.3.3.2 市場予測
11.3.4 イタリア
11.3.4.1 市場動向
11.3.4.2 市場予測
11.3.5 スペイン
11.3.5.1 市場動向
11.3.5.2 市場予測
11.3.6 ロシア
11.3.6.1 市場動向
11.3.6.2 市場予測
11.3.7 その他
11.3.7.1 市場動向
11.3.7.2 市場予測
11.4 ラテンアメリカ
11.4.1 ブラジル
11.4.1.1 市場動向
11.4.1.2 市場予測
11.4.2 メキシコ
11.4.2.1 市場動向
11.4.2.2 市場予測
11.4.3 その他地域
11.4.3.1 市場動向
11.4.3.2 市場予測
11.5 中東・アフリカ地域
11.5.1 市場動向
11.5.2 国別市場分析
11.5.3 市場予測
12 SWOT分析
12.1 概要
12.2 強み
12.3 弱み
12.4 機会
12.5 脅威
13 バリューチェーン分析
14 ポーターの5つの力分析
14.1 概要
14.2 購買者の交渉力
14.3 供給者の交渉力
14.4 競争の激しさ
14.5 新規参入の脅威
14.6 代替品の脅威
15 価格分析
16 競争環境
16.1 市場構造
16.2 主要プレイヤー
16.3 主要プレイヤーのプロファイル
16.3.1 ASMLホールディングN.V.
16.3.1.1 会社概要
16.3.1.2 製品ポートフォリオ
16.3.2 キヤノン株式会社
16.3.2.1 会社概要
16.3.2.2 製品ポートフォリオ
16.3.2.3 財務状況
16.3.2.4 SWOT分析
16.3.3 Eulitha AG
16.3.3.1 会社概要
16.3.3.2 製品ポートフォリオ
16.3.4 EV Group
16.3.4.1 会社概要
16.3.4.2 製品ポートフォリオ
16.3.5 Holmarc Opto-Mechatronics Ltd.
16.3.5.1 会社概要
16.3.5.2 製品ポートフォリオ
16.3.6 マイクロファブ・サービス社
16.3.6.1 会社概要
16.3.6.2 製品ポートフォリオ
16.3.7 ニュートロニクス・クインテル
16.3.7.1 会社概要
16.3.7.2 製品ポートフォリオ
16.3.8 ニコン株式会社
16.3.8.1 会社概要
16.3.8.2 製品ポートフォリオ
16.3.8.3 財務状況
16.3.8.4 SWOT分析
16.3.9 NuFlare Technology Inc. (東芝エレクトロニクスデバイス＆ストレージ株式会社)
16.3.9.1 会社概要
16.3.9.2 製品ポートフォリオ
16.3.10 Orthogonal Inc.
16.3.10.1 会社概要
16.3.10.2 製品ポートフォリオ
16.3.11 Osiris International GmbH
16.3.11.1 会社概要
16.3.11.2 製品ポートフォリオ
16.3.12 エス・キューブド株式会社
16.3.12.1 会社概要
16.3.12.2 製品ポートフォリオ
図2：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（10億米ドル）、2017-2022年
図3：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（10億米ドル）、2023-2028年
図4：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：プロセス別内訳（％）、2022年
図5：世界：フォトリソグラフィ装置市場：波長別内訳（％）、2022年
図6：世界：フォトリソグラフィ装置市場：デバイス波長別内訳（％）、2022年
図7：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：用途別内訳（%）、2022年
図8：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：最終用途別内訳（%）、2022年
図9：グローバル：フォトリソグラフィ装置市場：地域別内訳（%）、2022年
図10：グローバル：フォトリソグラフィ装置（紫外線（UV））市場：販売額（百万米ドル）、2017年及び2022年
図11：世界：フォトリソグラフィ装置（紫外線（UV））市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図12：世界：フォトリソグラフィ装置（深紫外線（DUV））市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図13：世界：フォトリソグラフィ装置（深紫外線（DUV））市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図14：世界：フォトリソグラフィ装置（極端紫外線（EUV））市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図15：グローバル：フォトリソグラフィ装置（極端紫外線（EUV））市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図16：世界：フォトリソグラフィ装置（70 nm–1 nm）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図17：世界：フォトリソグラフィ装置（70 nm–1 nm）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図18：世界：フォトリソグラフィ装置（270nm～170nm）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図19：世界：フォトリソグラフィ装置（270 nm–170 nm）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図20：世界：フォトリソグラフィ装置（370 nm–270 nm）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図21：グローバル：フォトリソグラフィ装置（370 nm–270 nm）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図22：世界：フォトリソグラフィ装置（レーザー生成プラズマ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図23：グローバル：フォトリソグラフィ装置（レーザー生成プラズマ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図24：グローバル：フォトリソグラフィ装置（エキシマレーザー）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図25：グローバル：フォトリソグラフィ装置（エキシマレーザー）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図26：グローバル：フォトリソグラフィ装置（水銀ランプ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図27：グローバル：フォトリソグラフィ装置（水銀ランプ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図28：グローバル：フォトリソグラフィ装置（フロントエンド）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図29：グローバル：フォトリソグラフィ装置（フロントエンド）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図30：世界：フォトリソグラフィ装置（バックエンド）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図31：世界：フォトリソグラフィ装置（バックエンド）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図32：世界：フォトリソグラフィ装置（IDM向け）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図33：世界：フォトリソグラフィ装置（IDM向け）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図34：グローバル：フォトリソグラフィ装置（ファウンドリ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図35：グローバル：フォトリソグラフィ装置（ファウンドリ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図36：北米：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図37：北米：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図38：米国：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図39：米国：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図40：カナダ：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図41：カナダ：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図42：アジア太平洋地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図43：アジア太平洋地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図44：中国：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図45：中国：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図46：日本：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図47：日本：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図48：インド：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図49：インド：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図50：韓国：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図51：韓国：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図52：オーストラリア：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図53：オーストラリア：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図54：インドネシア：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図55：インドネシア：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図56：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図57：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図58：欧州：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図59：欧州：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図60：ドイツ：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図61：ドイツ：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図62：フランス：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図63：フランス：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図64：英国：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図65：英国：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図66：イタリア：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図67：イタリア：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図68：スペイン：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図69：スペイン：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図70：ロシア：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図71：ロシア：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図72：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図73：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図74：ラテンアメリカ：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図75：ラテンアメリカ：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図76：ブラジル：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図77：ブラジル：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図78：メキシコ：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図79：メキシコ：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図80：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図81：その他地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023年～2028年
図82：中東・アフリカ地域：フォトリソグラフィ装置市場：売上高（百万米ドル）、2017年及び2022年
図83：中東・アフリカ地域：フォトリソグラフィ装置市場：国別内訳（％）、2022年
図84：中東・アフリカ地域：フォトリソグラフィ装置市場予測：売上高（百万米ドル）、2023-2028年
図85：グローバル：フォトリソグラフィ装置産業：SWOT分析
図86：グローバル：フォトリソグラフィ装置産業：バリューチェーン分析
図87：グローバル：フォトリソグラフィ装置産業：ポーターの5つの力分析
1 Preface
2 Scope and Methodology
2.1 Objectives of the Study
2.2 Stakeholders
2.3 Data Sources
2.3.1 Primary Sources
2.3.2 Secondary Sources
2.4 Market Estimation
2.4.1 Bottom-Up Approach
2.4.2 Top-Down Approach
2.5 Forecasting Methodology
3 Executive Summary
4 Introduction
4.1 Overview
4.2 Key Industry Trends
5 Global Photolithography Equipment Market
5.1 Market Overview
5.2 Market Performance
5.3 Impact of COVID-19
5.4 Market Forecast
6 Market Breakup by Process
6.1 Ultraviolet (UV)
6.1.1 Market Trends
6.1.2 Market Forecast
6.2 Deep Ultraviolet (DUV)
6.2.1 Market Trends
6.2.2 Market Forecast
6.3 Extreme Ultraviolet (EUV)
6.3.1 Market Trends
6.3.2 Market Forecast
7 Market Breakup by Wavelength
7.1 70 nm–1 nm
7.1.1 Market Trends
7.1.2 Market Forecast
7.2 270 nm–170 nm
7.2.1 Market Trends
7.2.2 Market Forecast
7.3 370 nm–270 nm
7.3.1 Market Trends
7.3.2 Market Forecast
8 Market Breakup by Device Wavelength
8.1 Laser Produced Plasmas
8.1.1 Market Trends
8.1.2 Market Forecast
8.2 Excimer Lasers
8.2.1 Market Trends
8.2.2 Market Forecast
8.3 Mercury Lamps
8.3.1 Market Trends
8.3.2 Market Forecast
9 Market Breakup by Application
9.1 Front-End
9.1.1 Market Trends
9.1.2 Market Forecast
9.2 Back-End
9.2.1 Market Trends
9.2.2 Market Forecast
10 Market Breakup by End Use
10.1 IDMs
10.1.1 Market Trends
10.1.2 Market Forecast
10.2 Foundries
10.2.1 Market Trends
10.2.2 Market Forecast
11 Market Breakup by Region
11.1 North America
11.1.1 United States
11.1.1.1 Market Trends
11.1.1.2 Market Forecast
11.1.2 Canada
11.1.2.1 Market Trends
11.1.2.2 Market Forecast
11.2 Asia-Pacific
11.2.1 China
11.2.1.1 Market Trends
11.2.1.2 Market Forecast
11.2.2 Japan
11.2.2.1 Market Trends
11.2.2.2 Market Forecast
11.2.3 India
11.2.3.1 Market Trends
11.2.3.2 Market Forecast
11.2.4 South Korea
11.2.4.1 Market Trends
11.2.4.2 Market Forecast
11.2.5 Australia
11.2.5.1 Market Trends
11.2.5.2 Market Forecast
11.2.6 Indonesia
11.2.6.1 Market Trends
11.2.6.2 Market Forecast
11.2.7 Others
11.2.7.1 Market Trends
11.2.7.2 Market Forecast
11.3 Europe
11.3.1 Germany
11.3.1.1 Market Trends
11.3.1.2 Market Forecast
11.3.2 France
11.3.2.1 Market Trends
11.3.2.2 Market Forecast
11.3.3 United Kingdom
11.3.3.1 Market Trends
11.3.3.2 Market Forecast
11.3.4 Italy
11.3.4.1 Market Trends
11.3.4.2 Market Forecast
11.3.5 Spain
11.3.5.1 Market Trends
11.3.5.2 Market Forecast
11.3.6 Russia
11.3.6.1 Market Trends
11.3.6.2 Market Forecast
11.3.7 Others
11.3.7.1 Market Trends
11.3.7.2 Market Forecast
11.4 Latin America
11.4.1 Brazil
11.4.1.1 Market Trends
11.4.1.2 Market Forecast
11.4.2 Mexico
11.4.2.1 Market Trends
11.4.2.2 Market Forecast
11.4.3 Others
11.4.3.1 Market Trends
11.4.3.2 Market Forecast
11.5 Middle East and Africa
11.5.1 Market Trends
11.5.2 Market Breakup by Country
11.5.3 Market Forecast
12 SWOT Analysis
12.1 Overview
12.2 Strengths
12.3 Weaknesses
12.4 Opportunities
12.5 Threats
13 Value Chain Analysis
14 Porters Five Forces Analysis
14.1 Overview
14.2 Bargaining Power of Buyers
14.3 Bargaining Power of Suppliers
14.4 Degree of Competition
14.5 Threat of New Entrants
14.6 Threat of Substitutes
15 Price Analysis
16 Competitive Landscape
16.1 Market Structure
16.2 Key Players
16.3 Profiles of Key Players
16.3.1 ASML Holding N.V.
16.3.1.1 Company Overview
16.3.1.2 Product Portfolio
16.3.2 Canon Inc.
16.3.2.1 Company Overview
16.3.2.2 Product Portfolio
16.3.2.3 Financials
16.3.2.4 SWOT Analysis
16.3.3 Eulitha AG
16.3.3.1 Company Overview
16.3.3.2 Product Portfolio
16.3.4 EV Group
16.3.4.1 Company Overview
16.3.4.2 Product Portfolio
16.3.5 Holmarc Opto-Mechatronics Ltd.
16.3.5.1 Company Overview
16.3.5.2 Product Portfolio
16.3.6 microfab Service GmbH
16.3.6.1 Company Overview
16.3.6.2 Product Portfolio
16.3.7 Neutronix Quintel
16.3.7.1 Company Overview
16.3.7.2 Product Portfolio
16.3.8 Nikon Corporation
16.3.8.1 Company Overview
16.3.8.2 Product Portfolio
16.3.8.3 Financials
16.3.8.4 SWOT Analysis
16.3.9 NuFlare Technology Inc. (Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation)
16.3.9.1 Company Overview
16.3.9.2 Product Portfolio
16.3.10 Orthogonal Inc.
16.3.10.1 Company Overview
16.3.10.2 Product Portfolio
16.3.11 Osiris International GmbH
16.3.11.1 Company Overview
16.3.11.2 Product Portfolio
16.3.12 S-Cubed Inc.
16.3.12.1 Company Overview
16.3.12.2 Product Portfolio
| ※参考情報 フォトリソグラフィ装置は、半導体製造や微細加工において、パターンを基板に転写するための重要な機器です。主にシリコンウェハーに対して微細な回路パターンを形成するために使用され、集積回路(IC)やMEMS(微小電気機械システム)の製造プロセスに欠かせない技術です。 フォトリソグラフィは、光を利用して感光性材料であるフォトレジストを露光し、パターンを形成するプロセスです。このプロセスは、ウェハー上に光を照射し、フォトレジストが化学的に変化することによって、最終的に所望の形状が新たに形成される流れで進行します。露光後には、現像処理が行われ、露光された部分または非露光部分のどちらか一方が除去されることにより、目的のパターンが基板に現れます。 フォトリソグラフィ装置にはいくつかの種類があり、主に使用される波長に応じて分類されます。紫外線を使った深紫外リソグラフィ(DUV)が一般的ですが、さらに微細なパターン形成を実現するために、極紫外線(EUV)リソグラフィも用いられるようになっています。EUVリソグラフィは、従来の技術に比べてはるかに短い波長の光を使用することで、より高い解像度でパターンを描くことが可能です。 フォトリソグラフィ装置は、基本的な構成要素として、光源、レンズシステム、パターンマスク、ウェハー搬送装置、現像装置などを含みます。光源では、紫外線を発生させるためのハイプレッシャー水銀ランプや、EUV装置用の高輝度レーザーが使用されます。レンズシステムは、光を集束し、マスクのパターンをウェハー上に正確に投影する役割を果たします。また、パターンマスクは、次に露光したいパターンが施されたもので、光を通す部分と遮る部分が規則的に配置されています。 フォトリソグラフィの用途は主に半導体製造ですが、それ以外にも、光学素子、微細加工、ナノテクノロジー、バイオセンサーなど広範囲にわたります。例えば、MEMSデバイスでは、センサーやアクチュエータの微細な構造を製造する際にもフォトリソグラフィ技術が活用されます。また、最近では光学的なデバイスや新しい材料の研究開発にも応用されています。 関連技術としては、エッチングや薄膜成膜技術が挙げられます。エッチング技術は、フォトリソグラフィで作成したパターンを基板に定着させるために、不要な材料を選択的に除去するプロセスです。薄膜成膜技術は、ウェハー上に必要な材料を均一に形成するための技術で、リソグラフィと組み合わせて使用されます。これらの技術は、より高度なデバイスを完成させるために相互に補完的な役割を果たします。 フォトリソグラフィ装置は、製造プロセスにおいて非常に高い精度と効率を求められます。なぜなら、半導体デバイスの微細化が進む中で、要求される解像度もますます高くなっているためです。これに伴い、技術革新が進められており、より短い波長の光源の開発や、マスクとレンズの高性能化などが進んでいます。これにより、業界全体の生産性や性能が向上し、電子機器の高機能化、低消費電力化が実現されてきました。 フォトリソグラフィ装置は、現在の情報社会において不可欠な技術であり、今後もさらなる進化が期待されます。特に、AIやIoTの普及に伴い、より高性能な半導体やデバイスの需要が高まる中で、フォトリソグラフィ技術の重要性はますます増していくでしょう。 |
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